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Découvrez comment le nettoyage plasma dans les systèmes PECVD améliore la disponibilité, la répétabilité et le rendement en automatisant la maintenance de la chambre pour un dépôt de couches minces fiable.
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Découvrez comment le processus plasma du PECVD à basse température permet de revêtir des matériaux sensibles à la chaleur, de réduire les défauts et d'augmenter les vitesses de dépôt par rapport au CVD thermique.
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Découvrez comment la puissance RF dans le PECVD contrôle la génération du plasma, le taux de dépôt, la contrainte du film et la couverture des marches pour des résultats de couches minces supérieurs.
Apprenez comment le PECVD utilise le plasma pour un dépôt de couches minces de haute qualité et à basse température sur des substrats sensibles, idéal pour les semi-conducteurs et l'électronique.
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