Le système de fusion d'hydroxyde de sodium-hydroxyde de potassium (NaOH-KOH) fonctionne comme un milieu chimique à haute température et à haute réactivité conçu pour décaper agressivement les impuretés de surface des wafers de silicium. En utilisant un environnement d'alcali fort en fusion, ce procédé fournit l'énergie thermique et chimique spécifique nécessaire pour décomposer des matériaux robustes comme le nitrure de silicium et le dioxyde de silicium.
L'objectif principal de ce système est d'utiliser des températures élevées et une forte alcalinité pour décaper les couches protectrices, ce qui entraîne des wafers de silicium propres et la séparation préliminaire des métaux.
Le rôle du milieu en fusion
Réactivité à haute température
La principale condition fournie par ce système est un environnement de haute activité réactive.
L'état de fusion permet aux alcalis forts d'interagir plus énergiquement avec la surface du wafer qu'ils ne le feraient en solution aqueuse.
Cette température élevée n'est pas seulement un sous-produit, mais une exigence pour initier le processus de décapage chimique.
Décapage chimique des couches de surface
Le milieu est spécifiquement ajusté pour attaquer et éliminer les différentes couches présentes sur les wafers de silicium solaire.
Il décape chimiquement efficacement la couche antireflet en nitrure de silicium et le dioxyde de silicium.
De plus, il élimine les couches d'impuretés d'aluminium, garantissant que le silicium sous-jacent est exposé et nettoyé.
Réalisation de la séparation des matériaux
Préparation à la récupération des métaux
Au-delà du nettoyage du wafer, le système crée les conditions nécessaires à la récupération des ressources.
Le procédé facilite la séparation préliminaire des métaux argent et aluminium.
En dissolvant l'aluminium et en décortiquant les couches de liaison, le système isole ces métaux pour les étapes de récupération ultérieures.
Nettoyage délibéré du wafer
Le résultat physique ultime de ces conditions est un wafer de silicium "propre".
L'environnement de sel en fusion élimine la pile complexe de revêtements de fabrication qui rendent le wafer inutilisable pour un recyclage direct.
Comprendre la dynamique opérationnelle
Nature chimique agressive
Il est important de reconnaître qu'il s'agit d'un système d'alcali fort.
Les conditions sont intrinsèquement agressives pour assurer la décomposition de couches chimiquement résistantes comme le nitrure de silicium.
L'exigence thermique
Le succès de ce procédé est strictement lié à l'état de fusion.
Une température insuffisante entraînerait probablement une perte d'activité réactive, ne parvenant pas à décaper les impuretés ou à séparer efficacement les métaux.
Faire le bon choix pour votre objectif
Ce procédé est hautement spécialisé pour la récupération de matériaux précieux à partir de dispositifs en silicium en fin de vie ou de rebut.
- Si votre objectif principal est la récupération de wafers : Assurez-vous que le système maintient une température suffisante pour décaper complètement les couches de nitrure de silicium et de dioxyde de silicium sans endommager le substrat du wafer.
- Si votre objectif principal est la récupération de métaux : Tirez parti de l'environnement à haute réactivité pour dissoudre complètement les impuretés d'aluminium, permettant une isolation efficace de l'argent.
Le système NaOH-KOH en fusion fournit la base thermique et chimique intense requise pour transformer les déchets électroniques complexes en matières premières récupérables.
Tableau récapitulatif :
| Condition du procédé | Description | Matériaux cibles |
|---|---|---|
| État du milieu | Hydroxyde de sodium-hydroxyde de potassium en fusion | Wafers de silicium (rebut/fin de vie) |
| Température | Énergie thermique à haute température | Nitrure de silicium (Si3N4) |
| Environnement chimique | Alcali fort agressif | Dioxyde de silicium (SiO2) |
| Fonction principale | Décapage et nettoyage chimiques | Séparation de l'aluminium et de l'argent |
| Objectif de récupération | Isolation préliminaire des métaux | Substrat de silicium de haute pureté |
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Références
- Yuxuan Sun. Methods and Improvement Measures Based on Solar Panel Recycling. DOI: 10.54254/2755-2721/2025.gl24086
Cet article est également basé sur des informations techniques de Kintek Furnace Base de Connaissances .
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