Connaissance Quelle est la température de fonctionnement du SiC ?Découvrez ses capacités à haute température
Avatar de l'auteur

Équipe technique · Kintek Furnace

Mis à jour il y a 1 semaine

Quelle est la température de fonctionnement du SiC ?Découvrez ses capacités à haute température

Le carbure de silicium (SiC) est un matériau de haute performance connu pour ses propriétés thermiques exceptionnelles, ce qui le rend idéal pour les applications à haute température.Dans l'air, le carbure de silicium forme une couche protectrice d'oxyde de silicium à 1200°C, ce qui lui permet de fonctionner efficacement jusqu'à 1600°C.Sa conductivité thermique élevée, sa faible dilatation thermique et sa grande solidité contribuent à une résistance exceptionnelle aux chocs thermiques.En particulier, éléments chauffants en SiC sont conçus pour fonctionner dans une plage de température de 1400°C à 1600°C, ce qui les rend adaptés aux processus de chauffage industriel nécessitant une chaleur extrême.

Explication des points clés :

  1. Formation d'un revêtement d'oxyde protecteur

    • À 1200°C dans l'air, le SiC développe une couche d'oxyde de silicium qui le protège contre toute oxydation supplémentaire.
    • Cette couche améliore la durabilité et prolonge la durée de vie du matériau dans les environnements à haute température.
  2. Température de fonctionnement maximale

    • Le SiC peut résister à des températures allant jusqu'à 1600°C en raison de sa grande stabilité chimique et thermique.
    • Au-delà de ce seuil, les risques de dégradation augmentent, bien qu'une exposition de courte durée puisse être tolérée dans des conditions contrôlées.
  3. Propriétés thermiques

    • Conductivité thermique élevée:Une distribution efficace de la chaleur minimise les points chauds.
    • Faible dilatation thermique:Réduit les contraintes lors des changements rapides de température.
    • Résistance exceptionnelle aux chocs thermiques:Crucial pour les applications impliquant des cycles de chauffage ou de refroidissement brusques.
  4. Performance des éléments chauffants en SiC

    • Optimisé pour 1400°C-1600°C Ces éléments tirent parti des propriétés innées du SiC pour assurer un chauffage constant et fiable.
    • Ils sont idéaux pour les fours, la fabrication de semi-conducteurs et d'autres processus industriels à haute température.
  5. Considérations pratiques pour les acheteurs

    • Pureté des matériaux:Affecte la résistance à l'oxydation et la tolérance maximale à la température.
    • L'environnement:L'air et l'atmosphère inerte peuvent modifier les limites de performance.
    • Conception de la charge:Les contraintes physiques (par exemple, le montage) ont un impact sur la longévité aux températures maximales.

Votre application implique-t-elle un chauffage cyclique ou un fonctionnement continu près de la limite supérieure ?Cela pourrait influencer le choix des éléments et les calendriers de maintenance.

Tableau récapitulatif :

Propriété Caractéristiques du SiC
Formation d'un revêtement d'oxyde Se forme à 1200°C dans l'air, ce qui améliore la durabilité.
Température maximale de fonctionnement Jusqu'à 1600°C ; une exposition de courte durée est possible au-delà de cette limite.
Conductivité thermique Élevée, assurant une distribution efficace de la chaleur.
Expansion thermique Faible, réduisant les contraintes lors des fluctuations de température.
Résistance aux chocs thermiques Exceptionnelle, idéale pour les cycles de chauffage/refroidissement rapides.
Gamme d'éléments chauffants 1400°C-1600°C, optimisée pour les fours industriels et les processus de semi-conducteurs.

Améliorez vos processus à haute température avec les solutions SiC avancées de KINTEK ! Que vous ayez besoin d'éléments chauffants fiables ou de composants durables pour des environnements extrêmes, notre expertise en matière de fours de laboratoire et industriels garantit des performances optimales. Contactez nous dès aujourd'hui pour discuter de vos besoins spécifiques et découvrir comment nos produits SiC peuvent améliorer vos opérations.

Produits associés

Éléments chauffants thermiques en carbure de silicium SiC pour four électrique

Éléments chauffants thermiques en carbure de silicium SiC pour four électrique

Éléments chauffants SiC haute performance pour les laboratoires, offrant une précision de 600-1600°C, une efficacité énergétique et une longue durée de vie. Solutions personnalisables disponibles.

Four tubulaire à quartz de laboratoire Four tubulaire chauffant RTP

Four tubulaire à quartz de laboratoire Four tubulaire chauffant RTP

Le four tubulaire à chauffage rapide RTP de KINTEK offre un contrôle précis de la température, un chauffage rapide jusqu'à 100°C/s et des options d'atmosphère polyvalentes pour les applications de laboratoire avancées.

Four tubulaire rotatif divisé à zones de chauffage multiples Four tubulaire rotatif

Four tubulaire rotatif divisé à zones de chauffage multiples Four tubulaire rotatif

Four tubulaire rotatif de précision à plusieurs zones de chauffage pour le traitement des matériaux à haute température, avec inclinaison réglable, rotation à 360° et zones de chauffage personnalisables. Idéal pour les laboratoires.

Four de fusion à induction sous vide et four de fusion à arc

Four de fusion à induction sous vide et four de fusion à arc

Explorez le four de fusion par induction sous vide de KINTEK pour le traitement des métaux de haute pureté jusqu'à 2000℃. Solutions personnalisables pour l'aérospatiale, les alliages et plus encore. Contactez-nous dès aujourd'hui !

Four à atmosphère contrôlée à bande maillée Four à atmosphère inerte à l'azote

Four à atmosphère contrôlée à bande maillée Four à atmosphère inerte à l'azote

Four à bande maillée KINTEK : Four à atmosphère contrôlée haute performance pour le frittage, le durcissement et le traitement thermique. Personnalisable, économe en énergie, contrôle précis de la température. Demandez un devis !

Four tubulaire de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) polyvalent, fabriqué sur mesure Machine de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

Four tubulaire de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) polyvalent, fabriqué sur mesure Machine de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

Le four tubulaire CVD de KINTEK offre un contrôle précis de la température jusqu'à 1600°C, idéal pour le dépôt de couches minces. Il est personnalisable en fonction des besoins de la recherche et de l'industrie.

Machine à four tubulaire CVD à zones de chauffage multiples pour équipement de dépôt chimique en phase vapeur

Machine à four tubulaire CVD à zones de chauffage multiples pour équipement de dépôt chimique en phase vapeur

Les fours tubulaires CVD multizones de KINTEK offrent un contrôle précis de la température pour le dépôt avancé de couches minces. Idéal pour la recherche et la production, personnalisable en fonction des besoins de votre laboratoire.

Four tubulaire CVD à chambre divisée avec machine CVD à station de vide

Four tubulaire CVD à chambre divisée avec machine CVD à station de vide

Four tubulaire CVD à chambre divisée avec station de vide - Four de laboratoire de haute précision à 1200°C pour la recherche sur les matériaux avancés. Solutions personnalisées disponibles.

Four tubulaire rotatif à inclinaison sous vide de laboratoire Four tubulaire rotatif

Four tubulaire rotatif à inclinaison sous vide de laboratoire Four tubulaire rotatif

Four rotatif de laboratoire KINTEK : chauffage de précision pour la calcination, le séchage et le frittage. Solutions personnalisables avec vide et atmosphère contrôlée. Améliorez la recherche dès maintenant !

Four tubulaire rotatif à fonctionnement continu scellé sous vide Four tubulaire rotatif

Four tubulaire rotatif à fonctionnement continu scellé sous vide Four tubulaire rotatif

Four tubulaire rotatif de précision pour le traitement continu sous vide. Idéal pour la calcination, le frittage et le traitement thermique. Personnalisable jusqu'à 1600℃.

1700℃ Four tubulaire de laboratoire à haute température avec tube en quartz ou en alumine

1700℃ Four tubulaire de laboratoire à haute température avec tube en quartz ou en alumine

Four tubulaire KINTEK avec tube en alumine : Chauffage de précision jusqu'à 1700°C pour la synthèse de matériaux, le dépôt chimique en phase vapeur et le frittage. Compact, personnalisable et prêt pour le vide. Explorer maintenant !

Four de pressage à chaud sous vide Machine Four à tube de pressage sous vide chauffé

Four de pressage à chaud sous vide Machine Four à tube de pressage sous vide chauffé

Découvrez le four de pressage à chaud à tubes sous vide de KINTEK pour le frittage à haute température, le pressage à chaud et le collage de matériaux. Solutions personnalisables pour les laboratoires.

1200℃ Four à tube divisé Four à tube à quartz de laboratoire avec tube à quartz

1200℃ Four à tube divisé Four à tube à quartz de laboratoire avec tube à quartz

Découvrez le four à tube divisé 1200℃ de KINTEK avec tube en quartz pour des applications de laboratoire précises à haute température. Personnalisable, durable et efficace. Obtenez le vôtre maintenant !

Four rotatif électrique Petit four rotatif Usine de pyrolyse de la biomasse Four rotatif

Four rotatif électrique Petit four rotatif Usine de pyrolyse de la biomasse Four rotatif

Le four rotatif de pyrolyse de la biomasse de KINTEK convertit efficacement la biomasse en biochar, biohuile et gaz de synthèse. Personnalisable pour la recherche ou la production. Obtenez votre solution maintenant !

Four tubulaire PECVD à diapositives avec gazogène liquide Machine PECVD

Four tubulaire PECVD à diapositives avec gazogène liquide Machine PECVD

Four tubulaire KINTEK Slide PECVD : Dépôt de couches minces de précision avec plasma RF, cycle thermique rapide et contrôle des gaz personnalisable. Idéal pour les semi-conducteurs et les cellules solaires.

Fours de frittage par étincelage et plasma SPS

Fours de frittage par étincelage et plasma SPS

Découvrez le four de frittage par plasma étincelant (SPS) de KINTEK pour un traitement rapide et précis des matériaux. Solutions personnalisables pour la recherche et la production.

Four rotatif électrique Petit four rotatif pour la régénération du charbon actif

Four rotatif électrique Petit four rotatif pour la régénération du charbon actif

Four électrique de régénération du charbon actif de KINTEK : four rotatif automatisé à haut rendement pour une récupération durable du carbone. Minimiser les déchets, maximiser les économies. Obtenez un devis !

1700℃ Four à moufle à haute température pour laboratoire

1700℃ Four à moufle à haute température pour laboratoire

Four à moufle KT-17M : Four de laboratoire de haute précision à 1700°C avec contrôle PID, efficacité énergétique et dimensions personnalisables pour les applications industrielles et de recherche.

RF PECVD System Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma)

RF PECVD System Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma)

Système KINTEK RF PECVD : Dépôt de couches minces de précision pour les semi-conducteurs, l'optique et les MEMS. Processus automatisé à basse température avec une qualité de film supérieure. Solutions personnalisées disponibles.

1200℃ Four à moufle pour laboratoire

1200℃ Four à moufle pour laboratoire

Four à moufle KINTEK KT-12M : Chauffage de précision à 1200°C avec contrôle PID. Idéal pour les laboratoires qui ont besoin d'une chaleur rapide et uniforme. Explorer les modèles et les options de personnalisation.


Laissez votre message