Produits High Temperature Furnaces CVD & PECVD Furnace Four rotatif incliné pour le dépôt chimique amélioré par plasma (PECVD)
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Four rotatif incliné pour le dépôt chimique amélioré par plasma (PECVD)

CVD & PECVD Furnace

Four rotatif incliné pour le dépôt chimique amélioré par plasma (PECVD)

Numéro d'article : KT-PED

Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations

Température de chauffage
≤800℃
Degré de vide
≤5×10-5Pa
Puissance de sortie
500W-1000W
ISO & CE icon

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Machine de revêtement par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD)

Dépôt par évaporation améliorée par plasma Machine de revêtement PECVD

Systèmes PECVD avancés de KINTEK : Revêtement de précision, adapté à vos besoins

S'appuyant sur une R&D exceptionnelle et une fabrication interne, KINTEK fournit des systèmes de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) de pointe, conçus pour divers laboratoires et applications industrielles. Le PECVD est une technique sophistiquée de dépôt de couches minces sous vide qui utilise le plasma pour activer les gaz précurseurs. Elle permet de créer des revêtements uniformes de haute qualité à des températures nettement inférieures à celles du dépôt chimique en phase vapeur (CVD) traditionnel, ce qui élargit les possibilités pour les substrats sensibles à la chaleur (comme les plastiques) et une gamme variée de matériaux de revêtement (y compris les diélectriques, les semi-conducteurs et les isolants).

Nos machines PECVD sont une offre clé au sein de la gamme complète de solutions avancées de fours à haute température de KINTEK, qui comprend également des fours à moufle, des fours tubulaires, des fours rotatifs, des fours à vide et à atmosphère, et d'autres systèmes CVD/MPCVD. Nous sommes fiers de notre forte capacité de personnalisation, garantissant que votre système PECVD est conçu avec précision pour répondre à vos exigences uniques en matière d'expérimentation et de production.

Caractéristiques principales

Les machines de revêtement par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) de KINTEK offrent une gamme de caractéristiques conçues pour une performance et une polyvalence supérieures :

  • Dépôt à basse température : Permet la formation d'un film de haute qualité sur des substrats délicats ou à faible point de fusion sans dommage thermique, ce qui élargit considérablement la compatibilité des matériaux.
  • Taux de dépôt élevés : Permet une croissance rapide du film, maximisant le débit, réduisant le temps de traitement et augmentant la productivité globale.
  • Films uniformes et résistants aux fissures : Produit des revêtements dont l'épaisseur et les propriétés sont exceptionnellement homogènes sur le substrat, minimisant ainsi les défauts tels que les craquelures, pour des résultats fiables et durables.
  • Excellente adhérence au substrat : Assure une forte adhérence entre le film déposé et le matériau du substrat, ce qui permet d'obtenir des performances durables et d'éviter la délamination.
  • Capacités de revêtement polyvalentes : Permet le dépôt d'une large gamme de matériaux, tels que SiO2, SiNx, SiOxNy, et bien d'autres, répondant ainsi aux besoins d'applications diverses.
  • Revêtement conforme sur des géométries complexes : Capable de revêtir uniformément des substrats aux formes et topographies complexes, assurant une couverture complète et des performances optimales.
  • Conception conviviale : Conçu pour ne nécessiter que peu d'entretien et une installation simple, il minimise les temps d'arrêt et simplifie l'intégration dans votre flux de travail.

Caractéristiques techniques

Porte-échantillon Taille 1-6 pouces
Vitesse de rotation 0-20rpm réglable
Température de chauffage ≤800℃
Précision du contrôle ±0.5℃ Contrôleur PID SHIMADEN
Purge de gaz Débitmètre CONTRÔLEUR DE DÉBITMÈTRE MASSIQUE (MFC)
Canaux 4 canaux
Méthode de refroidissement Refroidissement par circulation d'eau
Chambre à vide Taille de la chambre Φ500mm X 550mm
Port d'observation Port d'observation avec déflecteur
Matériau de la chambre Acier inoxydable 316
Type de porte Porte à ouverture frontale
Matériau du capuchon Acier inoxydable 304
Orifice de la pompe à vide Bride CF200
Orifice d'entrée de gaz φ6 Connecteur VCR
Puissance du plasma Puissance de la source Alimentation DC ou RF
Mode de couplage Couplage inductif ou capacitif à plaque
Puissance de sortie 500W-1000W
Puissance de polarisation 500v
Pompe à vide Pompe à vide Pompe à vide à palettes 15L/S
Orifice de la turbopompe CF150/CF200 620L/S-1600L/S
Orifice de décharge KF25
Vitesse de la pompe Pompe à palettes:15L/s，Turbo pompe:1200l/s或1600l/s
Degré de vide ≤5×10-5Pa
Capteur de vide Jauge à vide à ionisation/résistance/jauge à film
Système d'alimentation Alimentation électrique AC 220V /380 50Hz
Puissance nominale 5kW
Dimensions de l'appareil 900mm X 820mm X870mm
Poids 200 kg

Applications

Les machines de revêtement par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) de KINTEK offrent une solution polyvalente pour un large éventail d'industries et d'applications de pointe :

  • Eclairage LED : Dépôt de films diélectriques et semi-conducteurs de haute qualité, essentiels pour des diodes électroluminescentes (DEL) efficaces et durables.
  • Semi-conducteurs de puissance : Formation de couches isolantes, d'oxydes de grille et d'autres composants de films critiques dans les dispositifs à semi-conducteurs de puissance.
  • MEMS (systèmes microélectromécaniques) : Fabrication de couches minces précises pour les capteurs, les actionneurs et d'autres dispositifs à micro-échelle.
  • Revêtements optiques : Dépôt de revêtements antireflets, de filtres optiques, de couches protectrices et d'autres composants optiques fonctionnels.
  • Cellules solaires à couche mince : Production de couches minces de silicium amorphe et microcristallin, ainsi que d'autres matériaux semi-conducteurs, pour les dispositifs photovoltaïques.
  • Modification des surfaces : Amélioration des propriétés de surface des matériaux, notamment de la résistance à la corrosion, de la résistance à l'usure, de la dureté et de la biocompatibilité.
  • Nanotechnologie : Synthèse de nanomatériaux avancés, tels que les nanoparticules, les nanofils et les films ultraminces pour de nouvelles applications.

Pourquoi s'associer à KINTEK pour la technologie PECVD ?

Choisir KINTEK pour vos besoins en PECVD signifie investir dans la qualité, la fiabilité et les solutions sur mesure :

  • Personnalisation approfondie : Nous sommes spécialisés dans la configuration de systèmes PECVD selon vos spécifications exactes, assurant une performance optimale pour vos applications uniques et vos objectifs de recherche.
  • R&D et fabrication avancées : Notre expertise interne stimule l'innovation, ce qui nous permet d'offrir une technologie PECVD de pointe.
  • Construction de haute qualité : Nos systèmes se caractérisent par des conceptions rigides construites avec des matériaux de première qualité tels que l'acier inoxydable pour assurer la stabilité, la durabilité et une durée de vie prolongée.
  • Des performances fiables : Conçues pour obtenir des résultats constants, nos machines PECVD produisent des films minces uniformes de haute qualité avec une excellente adhérence.
  • Assistance complète : De l'installation facile à la maintenance réduite, nous veillons à ce que nos systèmes soient conviviaux et soutenus par un service clientèle réactif.
  • Polyvalence : Nos machines peuvent déposer une large gamme de matériaux, ce qui les rend adaptées à divers processus industriels et de recherche.

Principe de fonctionnement

Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) est un procédé qui utilise le plasma (un gaz ionisé) pour stimuler et améliorer les réactions chimiques pendant le processus de dépôt de couches minces. Contrairement au dépôt en phase vapeur conventionnel qui repose uniquement sur des températures élevées pour stimuler les réactions, le dépôt en phase vapeur assisté par plasma utilise un plasma à haute énergie. Ce plasma énergise les gaz précurseurs, ce qui entraîne la formation d'espèces réactives à des températures de substrat nettement inférieures. Ces espèces réactives s'adsorbent ensuite sur la surface du substrat et subissent des réactions chimiques pour former un film solide et fin. Cette méthode permet de déposer divers films de haute qualité, tels que SiO2, SiNx et SiOxNy, et est particulièrement efficace pour créer des films minces de silicium amorphe ou microcristallin utilisés dans les cellules solaires. Les températures de traitement plus basses minimisent les contraintes thermiques sur les substrats, réduisent les trous d'épingle et préviennent les fissures, ce qui rend le procédé PECVD idéal pour une plus large gamme de matériaux et d'applications.

Personnalisez votre solution PECVD avec KINTEK

Prêt à améliorer vos capacités de dépôt de couches minces ? Les experts de KINTEK sont à votre disposition pour discuter des besoins et des défis spécifiques de votre projet. Nous pouvons vous aider à configurer un système de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma parfaitement adapté à vos exigences expérimentales ou de production. Bénéficiez de notre expertise en matière de personnalisation et de notre technologie avancée pour obtenir des résultats supérieurs.

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FAQ

Qu'est-ce Qu'un Four Tubulaire Et Comment Fonctionne-t-il ?

Un four tubulaire est un dispositif de chauffage qui génère de la chaleur par l'intermédiaire d'une source de chaleur et transfère cette chaleur à la pièce ou au milieu par l'intermédiaire du tube du four. Il fournit un chauffage stable et uniforme adapté à diverses applications industrielles. Le système de contrôle de la température surveille la température du four à l'aide de thermocouples ou d'autres capteurs, et renvoie le signal au contrôleur qui ajuste la puissance de sortie des éléments chauffants pour maintenir un contrôle précis de la température.

Quelles Sont Les Principales Applications D'un Four Tubulaire Rotatif ?

Les fours tubulaires rotatifs sont largement utilisés dans la métallurgie des poudres, le mélange de matériaux et les réactions chimiques où un chauffage uniforme et un mélange continu sont essentiels. Ils sont particulièrement efficaces pour le traitement des matériaux granuleux ou pulvérulents.

Quel Est Le Principe D'un Four Rotatif ?

Un four rotatif fonctionne comme un cylindre tournant autour de son axe, légèrement incliné pour faciliter le mouvement de la charge d'une extrémité à l'autre. Cette conception favorise le mélange et le chauffage uniforme. La chaleur est généralement fournie par des gaz chauds circulant à contre-courant du flux de matière.

À Quoi Sert Un Four Rotatif ?

Un four rotatif est utilisé pour divers procédés, notamment la cémentation (ajout de carbone aux surfaces métalliques), la nitruration (ajout d'azote aux surfaces métalliques), le frittage, le recuit et d'autres traitements avancés des matériaux. Il est également utilisé dans des applications telles que la pyrolyse de la biomasse, la régénération du charbon actif et le dépôt précis de couches minces dans la recherche sur les semi-conducteurs.

Quelles Sont Les Principales Applications Des Fours Tubulaires Multizones ?

Les fours tubulaires multizones sont utilisés dans diverses applications commerciales et de recherche, notamment la production de semi-conducteurs et de batteries, la fabrication de thermocouples et de câbles à isolation minérale, le brasage et le traitement thermique sous vide, le durcissement et le frittage sous vide, les essais sur l'eau, les déchets et le sol, les essais sur les céramiques et les métaux dans l'aérospatiale, l'analyse du pétrole et du gaz, les piles à combustible à oxyde solide et la production de composites polymères et de graphène. Ils sont également utilisés pour les traitements thermiques des métaux (trempe, revenu, recuit), le préchauffage pour le soudage, le frittage des céramiques et de la métallurgie des poudres, les traitements de revêtement et les expériences de recherche sur les matériaux.

Quelles Sont Les Applications Courantes D'un Four à Tube Divisé ?

Les fours à tubes divisés sont couramment utilisés pour les essais de matériaux (tels que les essais de traction), la pyrolyse de matériaux organiques, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour le dépôt de couches minces, la graphitisation de matériaux contenant du carbone et le frittage de céramiques. Ces applications bénéficient du contrôle précis de la température et de la facilité de manipulation des échantillons qu'offrent les fours à tubes divisés.

Qu'est-ce Qu'un Four Tubulaire Vertical ?

Un four tubulaire vertical est un dispositif de chauffage à haute température conçu dans une orientation verticale, offrant un contrôle précis de la température, un chauffage uniforme et une utilisation efficace de l'énergie. Sa conception verticale permet d'économiser de l'espace et est particulièrement utile pour les processus qui bénéficient d'une configuration verticale.

Quelles Sont Les Principales Applications Des Fours Tubulaires ?

Les fours tubulaires sont largement utilisés pour les essais de trempe sous vide ou dans des conditions atmosphériques, les applications de traitement thermique, y compris les synthèses et les purifications, l'oxydation, la diffusion, la calcination et le recuit thermique de composés inorganiques ou organiques. Ils sont également utilisés dans les essais de matériaux, le traitement thermique et les réactions chimiques où des vitesses de chauffage et de refroidissement contrôlées sont nécessaires. Les fours tubulaires verticaux sont particulièrement adaptés aux processus dans lesquels les échantillons doivent être introduits dans le four par le haut.

Quelles Sont Les Principales Caractéristiques D'un Four à Tube Rotatif ?

Un four tubulaire rotatif est doté d'un mécanisme rotatif qui assure une distribution uniforme de la chaleur et un mélange minutieux des échantillons. Il est conçu pour un traitement continu et peut accueillir différents volumes d'échantillons. Le four comprend généralement plusieurs zones chauffées, un tube rotatif et inclinable, et peut atteindre des températures allant jusqu'à 1200°C.

Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four Rotatif ?

Les fours rotatifs offrent plusieurs avantages, notamment une utilisation élevée de l'énergie, une flexibilité dans le traitement de différents matériaux d'alimentation, une capacité de four discontinu, une capacité de production élevée, une récupération accrue du plomb, un respect de l'environnement et une utilisation conviviale nécessitant moins de main-d'œuvre.

Quels Sont Les Principaux Types De Fours Rotatifs Disponibles ?

Les principaux types de fours rotatifs comprennent les fours rotatifs électriques pour la pyrolyse et la calcination, les fours tubulaires rotatifs scellés sous vide pour le traitement en continu, les fours tubulaires rotatifs basculants sous vide de laboratoire, les fours tubulaires rotatifs divisés à zones de chauffage multiples et les fours tubulaires rotatifs inclinés pour le dépôt chimique assisté par plasma (PECVD). Chaque type est conçu pour des applications et des exigences de température spécifiques.

Quelles Sont Les Principales Caractéristiques Des Fours Tubulaires Multizones ?

Les principales caractéristiques sont les suivantes 1) des capacités de recuit et de dépôt chimique en phase vapeur flexibles, 2) la possibilité d'accueillir des échantillons jusqu'à 60 mm (2 pouces), 3) un collecteur intégré pour faciliter l'acheminement du gaz, 4) des gradients de température naturels avec des extrémités plus froides et un chauffage uniforme au centre, 5) l'adaptabilité à différents gaz ou conditions de vide, et 6) plusieurs zones de chauffage contrôlées de manière indépendante pour des profils de température précis.

Quelles Sont Les Principales Caractéristiques D'un Four à Tube Fendu ?

Un four à tube divisé offre généralement des options pour 1, 2, 3 ou 5 zones chauffées, avec une longueur chauffée allant de 200 à 600 mm et un diamètre chauffé de 40 à 100 mm. Il comprend un système de refroidissement par air forcé à double couche pour garantir une température sûre et utilise un serpentin de chauffage comme source de chaleur, capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 1 200 °C. Le four est conçu avec un tube cylindrique fendu dans le sens de la longueur, souvent en deux moitiés reliées par des charnières et équipées d'amortisseurs pneumatiques pour un fonctionnement en douceur.

Quelles Sont Les Applications D'un Four Tubulaire Vertical ?

Les fours tubulaires verticaux sont largement utilisés dans les essais de matériaux, le traitement thermique et les réactions chimiques nécessitant des vitesses de chauffage et de refroidissement contrôlées. Ils sont également utilisés en génie chimique pour la production de résines synthétiques, de caoutchouc, de peintures et de colorants, dans l'industrie alimentaire pour la cuisson, le séchage et la stérilisation, et dans la métallurgie pour les processus de fonte, de fusion et de traitement thermique.

Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four Tubulaire ?

Les fours tubulaires offrent plusieurs avantages, notamment une technologie mature, une structure de four simple, une faible consommation d'énergie, un rendement thermique élevé, une facilité d'utilisation et de contrôle, une capacité de production continue, un contrôle précis de la température, une distribution uniforme de la température et une adaptabilité à différentes atmosphères. Ils permettent également un rendement plus élevé des produits, une forte concentration des produits et la possibilité de récupérer la majeure partie des gaz de craquage et des gaz de combustion. Plusieurs fours peuvent être combinés pour une production à grande échelle.

Comment Fonctionne Un Four Tubulaire Rotatif ?

Les fours à tubes rotatifs fonctionnent selon le principe de la cuisson indirecte, où la chaleur est transférée d'une source de chaleur aux matériaux par l'intermédiaire d'un tube rotatif. Ils utilisent un système thermique continu avec plusieurs zones de contrôle pour assurer un chauffage uniforme. Le four brûle un combustible pulvérisé, solide, gazeux ou liquide dans sa section de travail, créant des gaz de chauffage qui s'écoulent vers l'échantillon. Le tambour rotatif, revêtu d'un matériau réfractaire et monté en biais, facilite ce processus.

Quelles Sont Les Principales Caractéristiques D'un Four Rotatif ?

Les principales caractéristiques d'un four rotatif sont les suivantes : capacités à haute température, contrôle du chauffage multizone, rotation personnalisable et contrôle du processus, polyvalence de l'atmosphère et contrôles intégrés de la sécurité et de l'environnement.

Comment Fonctionne Un Four Rotatif ?

Un four rotatif fonctionne en faisant tourner le matériau à l'intérieur du four pour assurer une distribution uniforme de la chaleur. Le mécanisme de rotation permet d'obtenir une température radiale constante et un contrôle précis de la température, souvent grâce au chauffage électrique. Cette conception est économe en énergie et convient aux processus nécessitant un traitement uniforme des matériaux.

Comment Fonctionne Un Four Tubulaire Multizone ?

Un four tubulaire multizone fonctionne en 1) générer de la chaleur par le biais de plusieurs éléments chauffants contrôlés indépendamment, 2) transférer cette chaleur uniformément à travers le tube du four vers la pièce à usiner, 3) créer des gradients de température précis (pour des processus tels que la croissance de films CVD) ou des zones étendues à température constante (lorsque plusieurs zones sont réglées à la même température), et 4) maintenir des conditions de chauffage stables adaptées à divers processus industriels.

Comment Fonctionne Un Four à Tube Divisé ?

Un four à tube divisé fonctionne en générant de la chaleur par l'intermédiaire d'un serpentin de chauffage, qui transfère ensuite cette chaleur à la pièce ou au milieu à l'intérieur du tube du four. Ce processus garantit un chauffage stable et uniforme, ce qui le rend adapté à diverses applications industrielles et de laboratoire. Le four peut être configuré avec plusieurs zones chauffées et comprend des caractéristiques telles que le refroidissement par air forcé pour maintenir des températures externes sûres.

Quels Sont Les Avantages D'un Four Tubulaire Vertical ?

Les fours tubulaires verticaux présentent plusieurs avantages, notamment un encombrement plus faible que les fours horizontaux, ce qui les rend idéaux pour les laboratoires disposant d'un espace limité. Ils offrent également un fonctionnement efficace et économe en énergie, un contrôle précis de la température, une flexibilité d'utilisation, une facilité de fonctionnement, une sécurité, une fiabilité et une conformité aux normes environnementales.

Quels Sont Les Types De Fours Tubulaires Disponibles ?

Il existe différents types de fours tubulaires, notamment les fours tubulaires à quartz de laboratoire, les fours tubulaires rotatifs à zones de chauffage multiples séparées, les fours tubulaires à zones multiples, les fours tubulaires à haute température (jusqu'à 1 700 °C), les fours tubulaires PECVD pour le dépôt de couches minces, les fours tubulaires à vide et les fours tubulaires verticaux. Ces fours sont dotés de différentes caractéristiques telles que le chauffage rapide, l'inclinaison réglable, la rotation à 360°, les zones de chauffage personnalisables et la préparation au vide pour s'adapter à différentes applications.

Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four Tubulaire Rotatif ?

Le four tubulaire rotatif offre plusieurs avantages, notamment une distribution uniforme de la température grâce à son action rotative, qui empêche la sédimentation de l'échantillon et garantit un traitement cohérent. Il améliore l'efficacité du transfert de chaleur, ce qui se traduit par des temps de traitement plus courts et des résultats plus uniformes. En outre, sa conception permet une excellente efficacité dans le transfert de chaleur et peut être personnalisée avec plusieurs zones chauffées pour répondre à des besoins spécifiques.

Quelles Sont Les Applications Courantes D'un Four Rotatif ?

Les fours tubulaires rotatifs sont particulièrement utiles dans la métallurgie des poudres, le mélange de matériaux et les réactions chimiques, où un chauffage uniforme et un mélange continu sont essentiels. Ils sont également utilisés pour le traitement de matériaux granuleux ou poudreux, la production de matériaux tels que l'alumine et les boulettes de minerai de fer, et excellent dans des applications telles que la calcination et l'oxydation qui nécessitent un débit continu de matériaux en vrac.

Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four Tubulaire Multizone ?

Les avantages sont les suivants 1) Technologie mature et fiable avec une structure de four simple, 2) Faible consommation d'énergie avec un rendement thermique élevé, 3) Facilité d'utilisation et contrôle précis, 4) Capacité de production continue, 5) Capacité de créer des zones de chauffage uniformes étendues ou des gradients de température précis, 6) Rendements de produits plus élevés dans les processus chimiques, 7) Capacité de récupérer les gaz de processus, 8) Application à de nombreuses matières premières, et 9) Capacité d'obtenir des conditions de chauffage stables adaptées à divers processus industriels. Large applicabilité des matières premières, et 9) Extensibilité grâce à la combinaison de fours pour la production à grande échelle.

Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four à Tube Divisé ?

Les principaux avantages d'un four à tube divisé sont un chargement et un déchargement simplifiés des échantillons ou de l'équipement, une réduction des temps d'arrêt et une efficacité accrue. La conception en deux parties permet un accès rapide à la chambre du four, ce qui est particulièrement avantageux pour les applications nécessitant des changements fréquents ou des montages expérimentaux complexes. En outre, des caractéristiques telles que les amortisseurs pneumatiques et les zones de chauffage multiples améliorent encore la facilité d'utilisation et les performances.

Comment Fonctionne Un Four à Tube Vertical ?

Un four tubulaire vertical génère de la chaleur par l'intermédiaire d'une source de chaleur et transfère cette chaleur à la pièce ou au milieu chauffé par l'intermédiaire du tube du four. Ce processus garantit un chauffage stable et uniforme, ce qui le rend adapté à diverses applications industrielles.

Quelles Plages De Température Les Fours Tubulaires Peuvent-ils Atteindre ?

Les fours tubulaires sont disponibles dans différentes gammes de température pour répondre à différentes applications. Les modèles standard atteignent généralement 1200°C, tandis que les modèles à haute température peuvent atteindre 1400°C à 1700°C. Certains modèles spécialisés peuvent même atteindre 2000°C. La capacité de température dépend des éléments chauffants et des matériaux utilisés pour les tubes du four (tels que le quartz ou l'alumine).

Quelle Température Un Four Tubulaire Rotatif Peut-il Atteindre ?

Un four tubulaire rotatif peut atteindre une température maximale de 1200°C, ce qui le rend adapté aux applications à haute température telles que la calcination, le frittage et le traitement thermique.

Comment Un Four Rotatif Traite-t-il Différents Matériaux ?

Les fours rotatifs sont flexibles dans le traitement de différents matériaux d'alimentation grâce à leur conception rotative et légèrement inclinée, qui assure un chauffage et un mélange uniformes. Ils conviennent donc à une large gamme de matériaux, y compris les substances granuleuses ou pulvérulentes, et permettent un traitement efficace dans des applications telles que la calcination et l'oxydation.

Quels Sont Les Dispositifs De Sécurité Dont Sont équipés Les Fours Rotatifs ?

Les fours rotatifs sont équipés de dispositifs de sécurité importants tels que la protection contre les surchauffes, les mécanismes d'arrêt d'urgence et les systèmes d'alarme clairs. Ces dispositifs garantissent un fonctionnement sûr et préviennent les accidents au cours des processus à haute température.

Quels Sont Les Types De Fours Tubulaires Multizones Disponibles ?

Les types disponibles sont les suivants 1) les fours tubulaires rotatifs à zones de chauffage multiples séparées (avec possibilité d'inclinaison et de rotation), 2) les fours tubulaires à quartz de laboratoire (jusqu'à 1 700 °C avec 1 à 10 zones), 3) les fours de traitement thermique rapide (RTP) avec des vitesses de chauffage rapides, 4) les fours tubulaires CVD pour le dépôt chimique en phase vapeur, 5) les fours PECVD pour les processus améliorés par plasma, 6) les fours tubulaires à vide et 7) les fours tubulaires à haute pression. Ces fours sont disponibles dans différentes configurations avec des numéros de zone personnalisables, des plages de température et des caractéristiques spéciales telles que le contrôle du vide et de l'atmosphère.

Quelle Température Un Four à Tubes Fendus Peut-il Atteindre ?

Un four à tube divisé peut atteindre une température maximale de 1 200 °C, ce qui le rend adapté aux applications à haute température telles que la synthèse de matériaux, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le frittage. Le four utilise un serpentin de chauffage comme source de chaleur et comprend un système de refroidissement par air forcé à deux couches pour maintenir des températures externes sûres pendant le fonctionnement.

Quels Sont Les Types De Fours Tubulaires Verticaux Disponibles ?

Les fours tubulaires verticaux se présentent sous différentes formes, notamment avec une ou plusieurs zones de chauffage, des capacités de traitement thermique rapide (RTP), des stations de vide et des solutions personnalisables pour les besoins spécifiques des laboratoires, comme le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD).

Les Fours Tubulaires Peuvent-ils Fonctionner Sous Différentes Atmosphères ?

Oui, les fours tubulaires sont polyvalents et peuvent fonctionner dans diverses atmosphères, notamment l'air, les gaz inertes (comme l'argon ou l'azote), le vide et des mélanges de gaz spécialisés. Ils conviennent donc à un large éventail de procédés, notamment l'oxydation, la réduction, le recuit et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). De nombreux modèles sont conçus pour fonctionner sous vide et sont équipés de systèmes de contrôle des gaz pour une gestion précise de l'atmosphère.

Quels Types De Matériaux Peuvent être Traités Dans Un Four Tubulaire Rotatif ?

Les fours tubulaires rotatifs sont idéaux pour le traitement des matériaux granuleux ou pulvérulents. Ils sont couramment utilisés dans des applications impliquant la métallurgie des poudres, le mélange de matériaux et les réactions chimiques où un chauffage uniforme et un mélange continu sont nécessaires.

Les Fours Rotatifs Peuvent-ils être Personnalisés Pour Des Applications Spécifiques ?

Oui, les fours rotatifs peuvent être personnalisés pour des applications spécifiques. Ils sont disponibles dans diverses configurations, y compris différentes zones de chauffage, des angles d'inclinaison réglables et des capacités de rotation à 360°. Les options de personnalisation comprennent également des réglages de vide et d'atmosphère contrôlée pour répondre aux besoins précis des environnements de recherche ou de production.

Pourquoi La Conception En Deux Parties Est-elle Avantageuse Dans Un Four Tubulaire ?

La conception en deux parties d'un four tubulaire est avantageuse car elle permet un accès rapide et facile à la chambre du four. Cette conception, qui comprend souvent deux moitiés articulées avec des amortisseurs pneumatiques, simplifie la manipulation de montages complexes ou d'échantillons de grande taille, réduit les temps d'arrêt et améliore l'efficacité globale, en particulier dans les applications nécessitant des changements fréquents ou des configurations complexes.

Pourquoi Choisir Un Four Tubulaire Vertical Plutôt Qu'horizontal ?

Le choix d'un four tubulaire vertical par rapport à un four horizontal s'explique principalement par son faible encombrement et par la possibilité de bénéficier de procédés assistés par la gravité. La configuration verticale permet une distribution uniforme de la chaleur et des matériaux, ce qui la rend idéale pour des expériences ou des processus de fabrication spécifiques.

Qu'est-ce Qui Rend Les Fours Tubulaires KINTEK Si Spéciaux ?

Les fours tubulaires KINTEK se distinguent par la précision de leur contrôle de température (certains modèles offrant un chauffage rapide jusqu'à 100°C/sec), des zones de chauffage personnalisables (de 1 à 10 zones), des conceptions prêtes pour le vide et des certifications de sécurité. Ils offrent des solutions polyvalentes pour des applications avancées telles que la synthèse de matériaux, le dépôt chimique en phase vapeur, le frittage et la recherche sur les semi-conducteurs, avec des options pour les mécanismes rotatifs, les chambres divisées et les configurations améliorées par le plasma.

Quelles Plages De Température Les Fours Tubulaires Verticaux Peuvent-ils Atteindre ?

Les fours tubulaires verticaux peuvent atteindre des températures élevées, généralement jusqu'à 1 800 °C, selon le modèle et la configuration. Ils sont conçus pour un chauffage de précision et peuvent être personnalisés pour répondre à des exigences de température spécifiques pour diverses applications.

Les Fours Tubulaires Verticaux Sont-ils Personnalisables ?

Oui, les fours tubulaires verticaux sont hautement personnalisables. Ils peuvent être personnalisés avec des caractéristiques telles que des zones de chauffage multiples, des capacités de chauffage rapide, des systèmes de vide et des contrôles d'atmosphère spécifiques pour répondre aux besoins uniques des différentes applications industrielles et de recherche.
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4.8

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5

This machine is a game-changer! The precision and efficiency are unmatched. Worth every penny!

Elara Voss

4.9

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Incredible technology! The inclined rotary feature makes all the difference. Superb quality!

Rafael Mendoza

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Fast delivery and easy setup. The performance exceeds expectations. Highly recommend!

Sienna Khatri

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Top-notch durability and advanced features. This machine is built to last. Impressive!

Nikolai Petrov

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The PECVD process is flawless. Such a reliable and high-quality machine. Love it!

Ananya Rao

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Great value for money. The technology is cutting-edge and the results are consistent.

Lucien Dubois

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Exceptional performance! The rotary design enhances uniformity. A must-have for labs!

Zara Al-Mansoor

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Outstanding machine! The plasma enhancement is brilliant. Delivered faster than expected.

Hiroshi Tanaka

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Perfect for high-throughput applications. The build quality is exceptional. Very satisfied!

Freya Olsen

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Innovative and reliable. The inclined tube design is genius. Works like a charm!

Mateo Silva

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Fantastic investment! The machine delivers consistent, high-quality results. Highly impressed!

Aisha Nkosi

Produits

Four rotatif incliné pour le dépôt chimique amélioré par plasma (PECVD)

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Four rotatif électrique Petit four rotatif pour la régénération du charbon actif

Four électrique de régénération du charbon actif de KINTEK : four rotatif automatisé à haut rendement pour une récupération durable du carbone. Minimiser les déchets, maximiser les économies. Obtenez un devis !

RF PECVD System Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma)

RF PECVD System Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma)

Système KINTEK RF PECVD : Dépôt de couches minces de précision pour les semi-conducteurs, l'optique et les MEMS. Processus automatisé à basse température avec une qualité de film supérieure. Solutions personnalisées disponibles.

Four tubulaire vertical à quartz de laboratoire Four tubulaire

Four tubulaire vertical à quartz de laboratoire Four tubulaire

Four tubulaire vertical de précision KINTEK : chauffage 1800℃, contrôle PID, personnalisable pour les laboratoires. Idéal pour le dépôt chimique en phase vapeur, la croissance cristalline et les essais de matériaux.

Four rotatif électrique Petit four rotatif Usine de pyrolyse de la biomasse Four rotatif

Four rotatif électrique Petit four rotatif Usine de pyrolyse de la biomasse Four rotatif

Le four rotatif de pyrolyse de la biomasse de KINTEK convertit efficacement la biomasse en biochar, biohuile et gaz de synthèse. Personnalisable pour la recherche ou la production. Obtenez votre solution maintenant !

1200℃ Four à tube divisé Four à tube à quartz de laboratoire avec tube à quartz

1200℃ Four à tube divisé Four à tube à quartz de laboratoire avec tube à quartz

Découvrez le four à tube divisé 1200℃ de KINTEK avec tube en quartz pour des applications de laboratoire précises à haute température. Personnalisable, durable et efficace. Obtenez le vôtre maintenant !

Four tubulaire sous vide à haute pression pour laboratoire Four tubulaire à quartz

Four tubulaire sous vide à haute pression pour laboratoire Four tubulaire à quartz

Four tubulaire à haute pression KINTEK : chauffage de précision jusqu'à 1100°C avec un contrôle de la pression de 15Mpa. Idéal pour le frittage, la croissance des cristaux et la recherche en laboratoire. Solutions personnalisées disponibles.

Four tubulaire à quartz de laboratoire Four tubulaire chauffant RTP

Four tubulaire à quartz de laboratoire Four tubulaire chauffant RTP

Le four tubulaire à chauffage rapide RTP de KINTEK offre un contrôle précis de la température, un chauffage rapide jusqu'à 100°C/s et des options d'atmosphère polyvalentes pour les applications de laboratoire avancées.

Four tubulaire rotatif à fonctionnement continu scellé sous vide Four tubulaire rotatif

Four tubulaire rotatif à fonctionnement continu scellé sous vide Four tubulaire rotatif

Four tubulaire rotatif de précision pour le traitement continu sous vide. Idéal pour la calcination, le frittage et le traitement thermique. Personnalisable jusqu'à 1600℃.

915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

Machine à diamant KINTEK MPCVD : Synthèse de diamants de haute qualité grâce à la technologie MPCVD avancée. Croissance plus rapide, pureté supérieure, options personnalisables. Augmentez votre production dès maintenant !

Soufflets à vide haute performance pour une connexion efficace et un vide stable dans les systèmes

Soufflets à vide haute performance pour une connexion efficace et un vide stable dans les systèmes

Fenêtre d'observation KF pour l'ultravide avec verre borosilicaté pour une vision claire dans des environnements exigeants de 10^-9 Torr. Bride durable en acier inoxydable 304.

Éléments chauffants thermiques en disiliciure de molybdène MoSi2 pour four électrique

Éléments chauffants thermiques en disiliciure de molybdène MoSi2 pour four électrique

Éléments chauffants MoSi2 haute performance pour les laboratoires, atteignant 1800°C avec une résistance supérieure à l'oxydation. Personnalisables, durables et fiables pour les applications à haute température.

Assemblage d'étanchéité de traversée d'électrode à vide à bride CF KF pour les systèmes à vide

Assemblage d'étanchéité de traversée d'électrode à vide à bride CF KF pour les systèmes à vide

Passage fiable d'électrodes à vide à bride CF/KF pour les systèmes à vide de haute performance. Garantit une étanchéité, une conductivité et une durabilité supérieures. Options personnalisables disponibles.

Vanne d'arrêt à bille en acier inoxydable 304 316 pour les systèmes de vide

Vanne d'arrêt à bille en acier inoxydable 304 316 pour les systèmes de vide

Les vannes à bille et les vannes d'arrêt à vide en acier inoxydable 304/316 de KINTEK assurent une étanchéité de haute performance pour les applications industrielles et scientifiques. Découvrez des solutions durables et résistantes à la corrosion.

Four de pressage à chaud sous vide Machine de pressage sous vide chauffée

Four de pressage à chaud sous vide Machine de pressage sous vide chauffée

Four de pressage à chaud sous vide KINTEK : chauffage et pressage de précision pour une densité de matériau supérieure. Personnalisable jusqu'à 2800°C, idéal pour les métaux, les céramiques et les composites. Explorez les fonctions avancées dès maintenant !

Machine à four tubulaire CVD à zones de chauffage multiples pour équipement de dépôt chimique en phase vapeur

Machine à four tubulaire CVD à zones de chauffage multiples pour équipement de dépôt chimique en phase vapeur

Les fours tubulaires CVD multizones de KINTEK offrent un contrôle précis de la température pour le dépôt avancé de couches minces. Idéal pour la recherche et la production, personnalisable en fonction des besoins de votre laboratoire.

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