Produits High Temperature Furnaces MPCVD Système de machine MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire
Système de machine MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

MPCVD

Système de machine MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

Numéro d'article : KTWB315

Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations


Puissance de sortie des micro-ondes
1~10 KW réglable en continu
Surface de croissance du substrat
3 pouces
Charge maximale par lot
45 pièces de diamant
ISO & CE icon

Livraison:

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Devis

S'appuyant sur une R&D exceptionnelle et une fabrication en interne, KINTEK fournit à divers laboratoires des solutions avancées de fours à haute température, y compris nos systèmes MPCVD de pointe. Notre gamme de produits, qui comprend des fours à moufle, des fours tubulaires, des fours rotatifs, des fours à vide et à atmosphère, ainsi que divers systèmes CVD/PECVD/MPCVD, est complétée par notre forte capacité de personnalisation afin de répondre précisément à vos exigences expérimentales uniques.

Systèmes MPCVD KINTEK : Produire des films de diamant de haute qualité avec précision

Système KinTek MPCVD

Nos systèmes de dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes (MPCVD) sont conçus pour les laboratoires et les industries qui souhaitent produire des films de diamant de qualité supérieure. En utilisant un gaz contenant du carbone et un plasma à micro-ondes, la technologie MPCVD de KINTEK offre une méthode fiable et efficace pour la synthèse du diamant.

Pourquoi choisir le système MPCVD de KINTEK ?

Avec des années d'implication profonde dans l'industrie et une vaste base de clients, l'équipement MPCVD de KINTEK est reconnu pour ses performances et sa fiabilité. Nos systèmes ont démontré

  • Une stabilité et une fiabilité exceptionnelles : Plus de 40 000 heures de fonctionnement régulier ont été prouvées.
  • Répétabilité et rentabilité : Ils fournissent constamment des résultats de haute qualité de manière efficace.
  • Grande capacité : Zone de culture de 3 pouces de substrat, avec une charge maximale de 45 pièces de diamant.
  • Efficace sur le plan énergétique : Puissance de sortie des micro-ondes réglable de 1 à 10 kW pour réduire la consommation d'électricité.
  • Soutien d'experts : Soutenu par une équipe de recherche très expérimentée qui propose des recettes de culture de diamants à la pointe de la technologie.
  • Convivialité pour les débutants : Programme d'assistance technique exclusif pour les équipes n'ayant aucune expérience de la culture de diamants.

En tirant parti de la technologie de pointe que nous avons accumulée, nous avons mis en œuvre plusieurs séries de mises à niveau et d'améliorations de notre système MPCVD, ce qui a permis d'améliorer considérablement l'efficacité et de réduire les coûts d'équipement. Par conséquent, notre équipement MPCVD est à la pointe des avancées technologiques et est proposé à un prix compétitif. Vous êtes prêt à améliorer vos capacités de croissance du diamant ? Consultez nos experts dès aujourd'hui !

Simulation KinTek MPCVD
Simulation MPCVD de KinTek

Vitrine visuelle : Résultats avec KINTEK MPCVD

Machines KINTEK MPCVD
Machines diamantaires KINTEK MPCVD
Nouveau modèle de machine KINTEK MPCVD pour le diamant
Nouveau modèle de machine diamantée KINTEK MPCVD
Nouveau modèle de machine diamantaire KINTEK MPCVD
Nouveau modèle de machine à diamant KINTEK MPCVD
Diamants bruts cultivés par KINTEK MPCVD
Diamants bruts cultivés par KINTEK MPCVD
Dans la machine KinTek MPCVD, les diamants poussent
Dans la machine KinTek MPCVD, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Diamant brut cultivé par une machine KINTEK MPCVD
Diamant brut cultivé par une machine KINTEK MPCVD
Diamant brut cultivé par une machine KINTEK MPCVD
Diamant brut cultivé par une machine KINTEK MPCVD
Diamant brut cultivé par la machine KINTEK MPCVD
Diamant brut cultivé par la machine KINTEK MPCVD
Diamants cultivés par MPCVD après polissage
Diamants cultivés par MPCVD après polissage
Polycristallin par KinTek MPCVD
Polycristallin par KinTek MPCVD

Caractéristiques principales et composants du système

Nos systèmes MPCVD sont conçus avec des composants de précision pour des performances optimales pendant le processus de dépôt. Le système se compose généralement d'une chambre à vide, d'un générateur de micro-ondes (souvent un magnétron ou un klystron fonctionnant autour de 2,45 GHz couplé à une fenêtre en quartz), d'un système d'alimentation en gaz précis avec des régulateurs de débit massique (MFC) et des mécanismes de contrôle de la température.

Système à micro-ondes

Système à micro-ondes

Chambre de réaction

Chambre de réaction

Système de flux de gaz

Système de débit de gaz

Système de vide et de capteurs

Système de vide et de capteurs

Spécifications techniques

Système à micro-ondes
  • Fréquence des micro-ondes 2450±15MHZ,
  • Puissance de sortie 1~10 KW réglable en continu
  • Stabilité de la puissance de sortie des micro-ondes :
  • Fuite de micro-ondes ≤2MW/cm2
  • Interface de guide d'ondes de sortie : WR340, 430 avec bride standard FD-340, 430
  • Débit d'eau de refroidissement : 6-12L/min
  • Coefficient d'onde stationnaire du système : VSWR ≤ 1.5
  • Réglage manuel des micro-ondes à 3 broches, cavité d'excitation, charge haute puissance
  • Alimentation d'entrée : 380VAC/50Hz ± 10%, triphasé
Chambre de réaction
  • Taux de fuite du vide
  • La pression limite est inférieure à 0,7 Pa (configuration standard avec jauge à vide Pirani).
  • L'augmentation de la pression de la chambre ne doit pas dépasser 50 Pa après 12 heures de maintien de la pression.
  • Mode de fonctionnement de la chambre de réaction : Mode TM021 ou TM023
  • Type de cavité : Cavité résonante cylindrique, d'une puissance maximale de 10 kW, en acier inoxydable 304, avec couche intermédiaire refroidie à l'eau et méthode d'étanchéité par plaque de quartz de haute pureté.
  • Mode d'admission d'air : Prise d'air uniforme annulaire supérieure
  • Scellage sous vide : Le raccord inférieur de la chambre principale et la porte d'injection sont scellés par des anneaux en caoutchouc, la pompe à vide et le soufflet sont scellés par du KF, la plaque de quartz est scellée par un anneau métallique en C, et le reste est scellé par du CF.
  • Fenêtre d'observation et de mesure de la température : 8 ports d'observation
  • Port de chargement de l'échantillon à l'avant de la chambre
  • Décharge stable dans la plage de pression de 0,7KPa~30KPa (la pression d'alimentation doit être adaptée)
Porte-échantillon
  • Diamètre de la table d'échantillonnage≥72mm, surface d'utilisation effective≥66 mm
  • Plate-forme de la plaque de base, structure sandwich refroidie à l'eau
  • Le porte-échantillon peut être soulevé et abaissé uniformément électriquement dans la cavité.
Système de flux de gaz
  • Disque d'air pour le soudage de tous les métaux
  • Des joints de soudure ou des joints VCR doivent être utilisés pour tous les circuits de gaz internes de l'équipement.
  • Débitmètre MFC à 5 canaux, H2/CH4/O2/N/Ar. H2 : 1000 sccm ;CH4:100 sccm ; O2 : 2 sccm ; N2 : 2 sccm ; Ar : 10 sccm
  • Pression de travail 0,05-0,3MPa, précision ±2%.
  • Contrôle indépendant des vannes pneumatiques pour chaque débitmètre de canal
Système de refroidissement
  • 3 lignes de refroidissement de l'eau, surveillance en temps réel de la température et du débit.
  • Le débit d'eau de refroidissement du système est ≤ 50L/min.
  • La pression de l'eau de refroidissement est de
Capteur de température
  • Le thermomètre infrarouge externe a une plage de température de 300-1400 ℃.
  • Précision du contrôle de la température
Système de contrôle
  • L'automate Siemens smart 200 et le contrôle par écran tactile sont adoptés.
  • Le système dispose d'une variété de programmes, qui peuvent réaliser l'équilibre automatique de la température de croissance, le contrôle précis de la pression de l'air de croissance, l'augmentation automatique de la température, la baisse automatique de la température et d'autres fonctions.
  • La surveillance du débit d'eau, de la température, de la pression et d'autres paramètres permet d'assurer un fonctionnement stable et une protection complète de l'équipement. La fiabilité et la sécurité du fonctionnement peuvent être garanties par un verrouillage fonctionnel.
Fonction optionnelle
  • Système de surveillance du centre
  • Puissance de base du substrat

L'avantage KINTEK MPCVD : Synthèse de diamant supérieure

La technologie MPCVD de KINTEK offre des avantages significatifs pour la synthèse du diamant par rapport à d'autres méthodes telles que HFCVD (Hot Filament CVD) et DC-PJ CVD (Direct Current Plasma Jet CVD) :

  • Diamants de grande pureté : La méthode MPCVD évite la contamination du diamant par des éléments tels que les fils chauds (comme dans la méthode HFCVD). Dans notre système, la boule de plasma n'entre pas en contact avec la paroi de la cavité, ce qui garantit un processus de croissance exempt d'impuretés et permet d'obtenir des diamants d'une plus grande pureté que ceux obtenus par la méthode HPHT (haute pression et haute température).
  • Utilisation polyvalente des gaz : L'utilisation de plusieurs gaz (CH4, H2, Ar, O2, N2) permet de répondre à divers besoins industriels et d'adapter les propriétés des diamants.
  • Contrôle stable et précis : Permet d'ajuster en douceur et en continu la puissance des micro-ondes et de contrôler de manière stable la température de réaction. Cela permet d'éviter les problèmes tels que la chute des germes de cristaux du substrat en raison de la formation d'arcs et de la défaillance de la flamme, parfois observés dans les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (DC-PJ). La température du substrat est contrôlée avec précision par la position du plasma et mesurée par un thermocouple.
  • Plasma stable sur une grande surface : La méthode MPCVD génère une grande surface de plasma de décharge stable, ce qui en fait la méthode de synthèse du diamant la plus prometteuse pour les applications industrielles et l'augmentation de la production.
  • Efficacité énergétique et rentabilité pour les diamants de grande taille : Le processus de production MPCVD consomme généralement moins d'énergie que le procédé HPHT et facilite la production de diamants plus grands et de haute qualité à un coût potentiellement inférieur.

Vous recherchez une solution de synthèse de diamants fiable et avancée qui offre pureté et performance ? Demandez un devis pour notre système MPCVD !

Principe de fonctionnement : comment le système KINTEK MPCVD produit des diamants

La machine MPCVD de KINTEK contrôle méticuleusement l'environnement de croissance. Le processus commence par le contrôle du flux de chaque voie de gaz (gaz réactifs tels que CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) et de la pression de la cavité, en introduisant ces gaz dans la cavité dans des conditions spécifiques et stabilisées. Une fois que le flux d'air est stable, le générateur de micro-ondes à semi-conducteurs de 6KW (ou réglable de 1 à 10KW) génère des micro-ondes qui sont ensuite introduites dans la cavité à travers un guide d'ondes.

Sous le champ de micro-ondes, le gaz de réaction se transforme en plasma, formant une boule de plasma qui plane au-dessus du substrat de diamant. La température élevée du plasma chauffe le substrat jusqu'à la température spécifique requise pour la croissance du diamant. L'excès de chaleur produit dans la cavité est efficacement dissipé par l'unité de refroidissement à eau.

Pour garantir des conditions de croissance optimales pendant le processus de croissance du diamant monocristallin MPCVD, des facteurs tels que la puissance des micro-ondes, la composition de la source de gaz et la pression de la cavité sont ajustés avec précision. La nature sans contact de la boule de plasma avec la paroi de la cavité est cruciale, car elle empêche les impuretés de contaminer le processus de croissance du diamant, améliorant ainsi la qualité finale du diamant.

Applications des diamants cultivés avec KINTEK MPCVD

Les propriétés uniques du diamant, notamment son extrême dureté, sa rigidité, sa conductivité thermique élevée, sa faible dilatation thermique, sa dureté aux radiations et son inertie chimique, en font un matériau de grande valeur. Alors que les diamants naturels et HPHT ont été limités en raison de leur coût, de leur taille et du contrôle des impuretés, la technologie MPCVD de KINTEK ouvre la voie à des applications plus larges :

  • Les diamants de qualité gemme : La technologie MPCVD est l'un des principaux équipements utilisés pour la croissance des pierres précieuses en diamant, offrant une voie prometteuse pour la production de gros diamants de haute qualité à faible coût pour le marché en expansion de la bijouterie.
  • Industrie des semi-conducteurs : La croissance de films de diamant peut être monocristalline ou polycristalline. Elle est largement utilisée pour les substrats diamantés de grande taille dans l'industrie des semi-conducteurs.
  • Outils de coupe et de forage : La dureté exceptionnelle des diamants MPCVD les rend idéaux pour l'industrie des outils de coupe ou de forage.
  • Optique et matériaux avancés : Pour les applications exploitant les propriétés optiques et thermiques uniques du diamant.

Comparée à la méthode HPHT pour les diamants cultivés en laboratoire, la méthode CVD par micro-ondes, telle qu'employée par KINTEK, est avantageuse pour la croissance de diamants de grande taille à un coût inférieur. Cela en fait une solution idéale pour les applications de diamants semi-conducteurs, de croissance de diamants optiques et pour répondre aux besoins du marché des gros diamants de joaillerie.

Partenaire de KINTEK pour des solutions personnalisées à haute température

Au-delà de nos systèmes MPCVD spécialisés, KINTEK offre une gamme de produits diversifiée comprenant des fours à moufle, des fours tubulaires, des fours rotatifs, d'autres fours sous vide et sous atmosphère, ainsi que divers systèmes CVD/PECVD. Notre force principale réside dans notre R&D exceptionnelle, notre fabrication interne dédiée et nos capacités de personnalisation approfondies, ce qui nous permet d'adapter les solutions précisément à vos exigences spécifiques en matière d'expérimentation ou de production.

Vous avez des exigences uniques ou un projet ambitieux ? Nous sommes spécialisés dans le développement de solutions personnalisées. Contactez KINTEK dès aujourd'hui pour discuter de vos besoins et découvrir comment notre technologie de four avancée peut profiter à votre travail !

FAQ

Quel Est Le Principe D'une Machine CVD ?

Le principe du dépôt chimique en phase vapeur (CVD) consiste à introduire dans une chambre de réaction la vapeur de réactifs gazeux ou liquides contenant des éléments de film et d'autres gaz nécessaires. En appliquant de l'énergie sous la forme d'une augmentation de la température, d'une action plasma, d'un rayonnement lumineux ou d'autres moyens, des réactions chimiques se produisent à la surface du substrat, générant de nouvelles substances solides qui se déposent sous forme de films minces. Le principe de fonctionnement d'un four CVD consiste à introduire des gaz précurseurs dans la chambre du four, où des températures élevées provoquent la réaction ou la décomposition de ces gaz à proximité de la surface du substrat. Le matériau souhaité se dépose sur le substrat sous la forme d'un film solide, tandis que les sous-produits et les gaz non utilisés sont évacués par un système d'échappement ou de vide.

Quel Est Le Principe D'une Machine MPCVD ?

Une machine MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) utilise un générateur de micro-ondes pour produire du plasma en ionisant un mélange de gaz. Ce plasma est logé dans une chambre de réaction sous faible pression, où le substrat est maintenu en place par un porte-substrat. Les principaux composants sont un générateur de micro-ondes, une chambre à plasma, un système de distribution de gaz, un porte-substrat et un système de vide.

À Quoi Sert Une Machine PECVD ?

Une machine PECVD (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma) est largement utilisée dans le traitement du silicium et des matériaux similaires, la nanotechnologie, la production de cellules solaires et l'électronique. Elle est essentielle pour déposer des couches minces dans les cellules solaires et créer des composants de haute qualité pour les appareils électroniques. Les applications comprennent la fabrication de dispositifs électroniques (isolation des couches conductrices, condensateurs, passivation de surface), les dispositifs semi-conducteurs, l'électronique imprimable et la protection des dispositifs médicaux.

Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'une Machine CVD ?

Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique permet d'obtenir une pureté, une uniformité et une conformité élevées, ce qui le rend adapté au revêtement de géométries complexes. Il est utilisé dans des industries telles que les semi-conducteurs, l'aérospatiale et le biomédical. Contrairement au dépôt en phase vapeur (PVD), le dépôt en phase vapeur n'est pas limité à une application en ligne de mire, et le revêtement se lie à la surface pendant la réaction, ce qui crée une adhérence supérieure.

Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'une Machine MPCVD ?

Les machines MPCVD offrent plusieurs avantages : elles éliminent la contamination par les fils chauds (décharge non polaire), permettent l'utilisation de plusieurs gaz, assurent un contrôle stable de la température de réaction, permettent une décharge stable du plasma sur une grande surface et offrent un contrôle précis de l'épaisseur du film, de la pureté et de la qualité des cristaux. En outre, ils produisent des films de diamant de grande surface, garantissent des conditions stables, maintiennent une qualité d'échantillon constante et sont rentables.

Quels Sont Les Principaux Types De Machines PECVD ?

Il existe différents types de machines PECVD, notamment des fours tubulaires rotatifs inclinés pour le dépôt chimique assisté par plasma (PECVD), des fours tubulaires CVD à chambre séparée avec stations de vide, des systèmes PECVD RF et des systèmes de machines MPCVD à résonateur cylindrique. Chaque type est conçu pour des applications spécifiques telles que la recherche sur les semi-conducteurs, le dépôt de couches minces et la croissance de diamants en laboratoire.

Quelles Sont Les Applications D'une Machine CVD ?

Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique est utilisé dans diverses applications, notamment la production de dispositifs semi-conducteurs (couches isolantes en nitrure de silicium, par exemple), les revêtements optiques, les revêtements de protection et les matériaux avancés tels que le graphène et les nanotubes de carbone, qui ont des propriétés électriques, thermiques et mécaniques uniques. Elle est également utilisée pour déposer des films conformes et modifier les surfaces des substrats comme les techniques traditionnelles ne peuvent le faire. Les applications comprennent le dépôt de couches atomiques, les circuits intégrés, les dispositifs photovoltaïques, les revêtements résistants à l'usure, les revêtements polymères aux propriétés particulières, les cadres métallo-organiques pour la détection des gaz et les revêtements membranaires pour le traitement de l'eau.

Quelles Sont Les Principales Applications Des Machines MPCVD ?

Les machines MPCVD sont principalement utilisées pour la synthèse de diamants de haute pureté cultivés en laboratoire, y compris les films de diamant et d'autres matériaux avancés. Leurs applications s'étendent à la recherche sur les semi-conducteurs, à l'optique et aux MEMS (systèmes micro-électro-mécaniques) en raison de leur capacité à produire des films homogènes de haute qualité avec un contrôle précis.

Comment Fonctionne Une Machine PECVD ?

Une machine PECVD utilise le plasma pour améliorer le processus de dépôt chimique en phase vapeur. Les taux de dépôt et les propriétés des films (par exemple, l'épaisseur, la dureté, l'indice de réfraction) sont contrôlés en ajustant des paramètres tels que les débits de gaz, les températures de fonctionnement et les conditions du plasma. Le plasma permet d'affiner les propriétés des matériaux telles que la densité, la pureté et la rugosité, ce qui permet de créer des films minces de haute qualité à des températures de substrat plus basses.

Quelles Sont Les Principales Caractéristiques D'une Machine CVD ?

Les principales caractéristiques d'un four CVD sont une capacité de température élevée (allant généralement de 200°C à plus de 1500°C), un contrôle précis du flux de gaz, un contrôle de l'atmosphère (vide, pression atmosphérique ou environnements à basse pression), un chauffage uniforme pour un dépôt régulier de couches minces et un système d'échappement efficace pour éliminer les sous-produits et les gaz qui n'ont pas réagi. Les principales caractéristiques d'un procédé de revêtement par dépôt chimique en phase vapeur comprennent l'application à des températures élevées pour faciliter la réaction, généralement sous vide. Les contaminants doivent être éliminés de la surface de la pièce avant le revêtement.

Quels Sont Les Principaux Composants D'une Machine MPCVD ?

Les principaux composants d'une machine MPCVD comprennent un générateur de micro-ondes (pour produire du plasma), une chambre de réaction (pour loger le substrat et le mélange gazeux sous basse pression), un porte-substrat (pour maintenir le substrat pendant le dépôt), un système d'alimentation en gaz (pour introduire et contrôler le mélange gazeux) et un système de vide (pour maintenir l'environnement à basse pression nécessaire).

Quelles Sont Les Principales Caractéristiques D'une Machine PECVD ?

Les principales caractéristiques d'une machine PECVD comprennent une console de base universelle abritant des sous-systèmes électroniques, une chambre de traitement PECVD avec un port de pompage, des électrodes supérieures et inférieures chauffées, un logiciel d'augmentation des paramètres et un module de gaz avec des conduites de gaz à débit massique contrôlé. Le système comprend généralement une chambre, une ou plusieurs pompes à vide et un système de distribution de gaz, les configurations variant en fonction de la source d'énergie, du type de gaz et des capteurs de pression.

Quels Sont Les Types De Machines CVD Disponibles ?

Il existe plusieurs types de machines CVD, notamment des systèmes de machines MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire, des fours tubulaires CVD polyvalents sur mesure pour le dépôt chimique en phase vapeur, des fours tubulaires PECVD à glissière avec gazéificateurs de liquide, des machines de four à presse à chaud sous vide, des fours tubulaires rotatifs inclinés pour le dépôt chimique amélioré par plasma (PECVD), des fours tubulaires CVD à chambre divisée avec stations de vide et des systèmes RF PECVD pour le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma à radiofréquence. Chaque type est conçu pour des applications spécifiques et offre des caractéristiques uniques.

Comment Une Machine MPCVD Améliore-t-elle L'efficacité énergétique ?

Une machine MPCVD améliore l'efficacité énergétique grâce à son procédé sans électrode, qui réduit la contamination et la perte d'énergie. La génération de plasma par micro-ondes est très efficace, et la conception modulaire et évolutive du système permet d'optimiser l'utilisation de l'énergie dans diverses applications industrielles.

Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'une Machine PECVD ?

Les machines PECVD offrent plusieurs avantages, notamment des taux de dépôt rapides (par exemple, 160 fois plus rapides pour le nitrure de silicium que pour le CVD), la possibilité de créer des films aux propriétés différentes en ajustant les paramètres du plasma et la composition du gaz, des films de haute qualité et d'épaisseur uniforme, une bonne adhérence, un risque réduit de fissuration et la possibilité d'utiliser des surfaces complexes. Ils offrent également une grande résistance aux solvants et à la corrosion, ainsi qu'une stabilité chimique et thermique.

Pourquoi La Technique MPCVD Est-elle Privilégiée Pour La Croissance Du Diamant ?

La technique MPCVD est privilégiée pour la croissance du diamant car elle fournit une densité élevée de particules chargées et d'espèces réactives, permet le dépôt de films de diamant de grande surface à des pressions plus faibles et garantit une meilleure homogénéité dans les films tels qu'ils ont été produits. Ces caractéristiques permettent d'obtenir des diamants d'une grande pureté et d'une grande qualité, avec un contrôle précis de leurs propriétés.

Quels Sont Les Matériaux Qui Peuvent être Déposés à L'aide D'une Machine PECVD ?

Les machines PECVD peuvent déposer une variété de matériaux, y compris le nitrure de silicium (SiN) et le carbure de silicium (SiC), qui sont particulièrement utiles dans les applications de semi-conducteurs et de MEMS à haute température. Ces machines sont polyvalentes et peuvent être utilisées pour créer des couches minces aux propriétés adaptées aux besoins spécifiques de l'industrie et de la recherche.

Pourquoi La PECVD Est-elle Préférée à D'autres Méthodes De Dépôt ?

La méthode PECVD est préférée à d'autres méthodes de dépôt car elle permet de déposer à des températures de substrat plus basses, d'obtenir une bonne couverture des étapes et de déposer des films très uniformes. Elle offre également un excellent contrôle sur les propriétés des matériaux telles que l'indice de réfraction, la contrainte et la dureté, ce qui la rend idéale pour les applications exigeant des caractéristiques précises pour les couches minces.
Voir plus de FAQ pour ce produit

4.9

out of

5

This machine is a game-changer! The diamond growth speed is phenomenal, and the quality is unmatched.

Elara Voss

4.8

out of

5

Incredible value for money. The precision and durability of this system are top-notch.

Rohan Mehta

4.7

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5

Fast delivery and easy setup. The technological advancement in this machine is mind-blowing.

Sienna Khalid

4.9

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5

The consistency in diamond quality is impressive. Worth every penny!

Lucian Berg

4.8

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5

Highly efficient and reliable. Perfect for lab diamond growth with minimal maintenance.

Ananya Rao

4.7

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5

The cylindrical resonator design is brilliant. Delivers flawless diamonds every time.

Dante Moretti

4.9

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5

Exceptional performance! The machine’s durability and advanced tech make it a must-have.

Zara Al-Farsi

4.8

out of

5

Superb investment. The speed and quality of diamond growth exceed expectations.

Kai Zhang

4.7

out of

5

Love the precision! This machine has revolutionized our lab’s diamond production.

Freya Olsen

4.9

out of

5

Outstanding build quality. The diamonds produced are of impeccable clarity and size.

Rafael Costa

4.8

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5

Fast, efficient, and reliable. The best MPCVD system we’ve used so far.

Mei Ling

4.7

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5

The technology behind this machine is cutting-edge. Highly recommend for any lab.

Elias Van Dijk

4.9

out of

5

Perfect for high-volume diamond growth. The quality is consistently excellent.

Aisha Nkosi

4.8

out of

5

A stellar purchase! The machine’s performance and durability are unmatched.

Mateo Silva

4.7

out of

5

Incredibly advanced and user-friendly. Delivers perfect diamonds with ease.

Yuki Tanaka

Produits

Système de machine MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

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Catégorie

Mpcvd

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1200℃ Four à atmosphère contrôlée d'azote inerte

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KINTEK 1200℃ Four à atmosphère contrôlée : chauffage de précision avec contrôle des gaz pour les laboratoires. Idéal pour le frittage, le recuit et la recherche sur les matériaux. Tailles personnalisables disponibles.

1400℃ Four à atmosphère contrôlée d'azote inerte

1400℃ Four à atmosphère contrôlée d'azote inerte

Four à atmosphère contrôlée KT-14A pour les laboratoires et l'industrie. Température maximale de 1400°C, scellage sous vide, contrôle du gaz inerte. Solutions personnalisées disponibles.

1700℃ Four à atmosphère contrôlée d'azote inerte

1700℃ Four à atmosphère contrôlée d'azote inerte

Four à atmosphère contrôlée KT-17A : chauffage précis à 1700°C avec contrôle du vide et du gaz. Idéal pour le frittage, la recherche et le traitement des matériaux. Découvrez-le maintenant !

Four à atmosphère inerte contrôlée d'azote et d'hydrogène

Four à atmosphère inerte contrôlée d'azote et d'hydrogène

Découvrez le four à atmosphère d'hydrogène de KINTEK pour un frittage et un recuit précis dans des environnements contrôlés. Jusqu'à 1600°C, caractéristiques de sécurité, personnalisable.

Four de traitement thermique et de frittage sous vide à pression d'air 9MPa

Four de traitement thermique et de frittage sous vide à pression d'air 9MPa

Obtenez une densification supérieure de la céramique avec le four de frittage à pression d'air avancé de KINTEK. Haute pression jusqu'à 9MPa, contrôle précis de 2200℃.