
CVD & PECVD Furnace
Four tubulaire de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) polyvalent, fabriqué sur mesure Machine de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
Numéro d'article : KT-CTF16
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Température maximale
- 1600℃
- Précision du contrôle de la température
- ±1℃
- Pression du vide (option vide poussé)
- 6x10-5Pa

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Four tubulaire CVD avancé de KINTEK : précision, polyvalence et personnalisation
En s'appuyant sur une R&D exceptionnelle et une fabrication interne, KINTEK fournit à divers laboratoires et clients industriels des solutions avancées de fours à haute température. Notre vaste gamme de produits, comprenant des fours à moufle, des fours tubulaires, des fours rotatifs, des fours à vide et à atmosphère, ainsi que des systèmes CVD/PECVD/MPCVD spécialisés, est étayée par notre forte capacité de personnalisation. Nous nous engageons à répondre précisément à vos exigences uniques en matière d'expérimentation et de production.
Présentation du produit : Four tubulaire CVD haute performance
Le four tubulaire de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de KINTEK est méticuleusement conçu pour les processus exigeant un contrôle précis de la température, de l'atmosphère et du flux de gaz. Il est idéal pour déposer des couches minces de haute qualité de divers matériaux, y compris des matériaux isolants, métalliques et des alliages de métaux, essentiels pour la recherche et les applications industrielles. Nos fours CVD sont généralement dotés de plusieurs zones de chauffage pour une meilleure uniformité de la température, de systèmes de vide robustes et de stations sophistiquées de contrôle du débit massique des gaz pour une distribution précise des précurseurs. Selon la configuration, ces systèmes peuvent atteindre des températures allant jusqu'à 1600°C (comme dans notre modèle KT-CTF16-60) et des niveaux de vide allant jusqu'à 6x10 -5 Pa avec les options de vide poussé.
Principaux avantages et caractéristiques
Nos fours tubulaires CVD sont conçus pour offrir des performances et une fiabilité exceptionnelles pour vos processus critiques :
- Contrôle et uniformité précis de la température : Le chauffage multizone (par exemple, 3x300 mm dans le KT-CTF16-60) et les contrôleurs PID avancés (précision de ±1°C) garantissent des profils de température stables et uniformes, essentiels pour une qualité de film constante.
- Fonctionnement polyvalent à haute température : Capable d'atteindre des températures élevées (par exemple, jusqu'à 1600°C, température de travail constante de 1550°C pour le modèle KT-CTF16-60), convenant à un large éventail de procédés CVD et de synthèses de matériaux.
- Gestion avancée des gaz : Les systèmes de contrôle du débit massique (MFC) multicanaux permettent un mélange et une distribution précis des gaz réactifs, avec une linéarité (±0,5 % de l'E.M.) et une répétabilité (±0,2 % de l'E.M.) élevées.
- Capacités flexibles en matière de vide et d'atmosphère : Les systèmes peuvent être configurés pour différents niveaux de vide, des pompes à palettes standard (par exemple, 10Pa) aux stations de pompage moléculaire à vide poussé (par exemple, 6x10 -5 Pa), ou fonctionner dans des atmosphères inertes/réactives contrôlées.
- Construction durable : Utilise des tubes de four de haute pureté (par exemple, Al 2 O 3 ) et des matériaux de chambre de qualité (par exemple, fibre polycristalline d'alumine) pour assurer la longévité et l'intégrité du processus.
- Interface conviviale : Les options de contrôleurs PID numériques ou à écran tactile offrent un fonctionnement intuitif, un enregistrement des données et une configuration facile.
- Conception personnalisable : Adaptée à vos besoins spécifiques, du diamètre du tube et de la longueur de la zone de chauffage aux canaux de gaz et aux composants de vide.
- Compact et efficace : Conçus pour être peu encombrants sans compromettre les performances, ils conviennent à divers environnements industriels et de laboratoire.
Spécifications techniques (exemple : modèle KT-CTF16-60)
Les spécifications suivantes concernent notre modèle KT-CTF16-60. Veuillez noter que les spécifications peuvent être adaptées à vos besoins.
Modèle de four | KT-CTF16-60 |
---|---|
Température maximale | 1600℃ |
Température de travail constante | 1550℃ |
Matériau du tube du four | Tube en Al2O3 de haute pureté |
Diamètre du tube du four | 60 mm |
Zone de chauffage | 3x300mm |
Matériau de la chambre | Fibre polycristalline d'alumine |
Élément chauffant | Carbure de silicium |
Vitesse de chauffe | 0-10℃/min |
Couple thermique | Type S |
Régulateur de température | Régulateur PID numérique/écran tactile |
Précision du contrôle de la température | ±1℃ |
Unité de contrôle précis des gaz | |
Débitmètre | Débitmètre massique MFC |
Canaux de gaz | 3 canaux (personnalisables) |
Débit (exemple) |
MFC1 : 0-5SCCM O2
MFC2 : 0-20SCM CH4 MFC3 : 0- 100SCCM H2 MFC4 : 0-500 SCCM N2 (personnalisable) |
Linéarité | ±0,5 % DE L'E.M. |
Répétabilité | ±0,2 % DE L'E.M. |
Tuyau et vanne | Acier inoxydable |
Pression de fonctionnement maximale | 0,45 MPa |
Contrôleur de débitmètre | Contrôleur numérique à bouton/écran tactile |
Unité de vide standard (en option) | |
Pompe à vide | Pompe à vide à palettes |
Débit de la pompe | 4L/S |
Orifice d'aspiration du vide | KF25 |
Jauge à vide | Jauge à vide Pirani/Résistance en silicone |
Pression nominale du vide | 10Pa |
Unité de vide poussé (en option) | |
Pompe à vide | Pompe à palettes+pompe moléculaire |
Débit de la pompe | 4L/S+110L/S |
Port d'aspiration du vide | KF25 |
Jauge à vide | Jauge à vide composée |
Pression nominale du vide | 6x10-5Pa |
Les spécifications et configurations ci-dessus peuvent être personnalisées |
Configurations de systèmes CVD personnalisables
Chez KINTEK, nous sommes spécialisés dans l'adaptation de nos systèmes de fours CVD à vos besoins précis de recherche ou de production. Découvrez quelques exemples de nos configurations polyvalentes et personnalisables :





Principe de fonctionnement
Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technique polyvalente de dépôt de couches minces dans laquelle un matériau solide est formé sur un substrat chauffé à partir de réactifs gazeux. Dans un four tubulaire CVD KINTEK, le substrat est placé à l'intérieur d'un tube de haute pureté (généralement en quartz ou en alumine) et chauffé à une température contrôlée avec précision. Un mélange soigneusement dosé de gaz précurseurs est introduit dans le tube par l'intermédiaire d'un système de contrôle du débit massique. Ces gaz réagissent ou se décomposent à la surface ou à proximité de la surface chaude du substrat, ce qui entraîne le dépôt de la couche mince souhaitée. Les principaux aspects opérationnels sont les suivants
- Environnement à haute température : Le four crée une zone stable à haute température nécessaire aux réactions chimiques.
- Débit de gaz contrôlé : Les régulateurs de débit massique (MFC) assurent une distribution précise et répétée des gaz précurseurs et porteurs.
- Vide ou atmosphère contrôlée : Un système de vide élimine les contaminants et les sous-produits indésirables, ou une atmosphère contrôlée (inerte ou réactive) peut être maintenue pour influencer la chimie du dépôt. Certains systèmes peuvent utiliser des décharges lumineuses à radiofréquence (RF) ou d'autres techniques d'amélioration du plasma pour un dépôt à plus basse température ou à des vitesses de dépôt plus élevées.
- Croissance uniforme du film : Une conception minutieuse des zones de chauffage et de la dynamique du flux de gaz permet d'obtenir une épaisseur et une composition de film uniformes sur le substrat.
Ce procédé est largement utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, de cellules solaires, de revêtements protecteurs, de nanomatériaux et d'autres dispositifs électroniques et optiques avancés.
Large gamme d'applications
Les fours tubulaires CVD multizones de KINTEK sont des outils indispensables dans divers secteurs de la recherche et de l'industrie :
- Synthèse de nanomatériaux : Idéal pour la croissance de nanofils, de nanotubes (par exemple, les nanotubes de carbone) et la préparation de nanofilms pour le développement de matériaux avancés.
- Technologies de revêtement avancées : Largement utilisées pour déposer des films métalliques, des films céramiques (oxydes, nitrures, carbures) et des films composites afin d'améliorer les propriétés de surface telles que la dureté, la résistance à la corrosion ou la conductivité.
- Semi-conducteurs et électronique : Essentiel pour le dépôt de couches isolantes, semi-conductrices et conductrices dans la fabrication de circuits intégrés, de capteurs et d'autres composants électroniques.
- Traitement des matériaux pour batteries : Convient au séchage, au frittage et à la modification de la surface des matériaux de batteries pour les dispositifs de stockage d'énergie à haute performance.
- Frittage et recuit à haute température : Employé pour le frittage sous atmosphère à haute température, la réduction de l'atmosphère et les processus de recuit pour la densification des matériaux et l'affinement des propriétés.
- Revêtement sous vide et sous atmosphère : Les capacités de vide poussé en font l'outil idéal pour les applications où la pureté et la qualité de l'enrobage sont primordiales.
- Recherche et développement : Largement utilisé dans les universités et les instituts de recherche scientifique pour les études fondamentales en science des matériaux, y compris les expériences CVD/CVI (Chemical Vapor Infiltration).
- Procédés améliorés par plasma : Peut être adapté pour le CVD assisté par plasma (PECVD), le nettoyage par plasma et la gravure, ce qui élargit sa polyvalence fonctionnelle.
Emballage standard (exemple pour KT-CTF16-60)
Non. | Description | Quantité |
---|---|---|
1 | Corps du four avec contrôle de la température | 1 |
2 | Tube en alumine de haute pureté ou en quartz (selon la commande) | 1 |
3 | Brides d'étanchéité au vide avec orifices | 2 ensembles |
4 | Blocs thermiques/obturateurs de tubes | 2 |
5 | Crochet pour bloc thermique de tube | 1 |
6 | Gants résistants à la chaleur | 1 paire |
7 | Unité de contrôle précis des gaz (MFCs selon commande) | 1 jeu |
8 | Unité de vide (pompe et jauge selon commande) | 1 ensemble |
9 | Manuel d'utilisation | 1 |
Configurations et personnalisations en option
Améliorez votre système CVD avec une gamme de caractéristiques optionnelles pour répondre à des besoins expérimentaux spécifiques :
- Systèmes de détection et de surveillance des gaz dans le tube (par exemple, pour H2, O2, etc.).
- Modules indépendants de surveillance de la température du four et d'enregistrement des données.
- Port de communication RS 485 pour le contrôle à distance par PC et l'exportation des données.
- Diverses options de contrôle du débit d'alimentation en gaz, y compris différentes plages pour les débitmètres massiques et les débitmètres à flotteur.
- Régulateurs de température à écran tactile perfectionnés, dotés de fonctions polyvalentes et conviviales (par exemple, rampes programmables, enregistrement des données).
- Installations de stations de pompage à vide poussé améliorées, comprenant des options telles que des pompes à vide à palettes, des pompes moléculaires ou des pompes à diffusion.
- Systèmes de distribution de précurseurs liquides/solides (par exemple, bulleurs, vaporisateurs).
- Systèmes de réduction des gaz d'échappement.
Partenaire de KINTEK pour vos solutions CVD
Vous êtes prêt à améliorer votre recherche ou vos processus industriels avec un four tubulaire CVD à la pointe de la technologie ? L'équipe KINTEK se consacre à vous fournir un système qui s'aligne parfaitement avec les exigences de votre application, soutenu par notre expertise dans la technologie à haute température et la personnalisation.
Contactez nous dès aujourd'hui pour discuter de vos besoins spécifiques, explorer les options de personnalisation ou demander un devis détaillé. Laissez-nous vous aider à obtenir des résultats inégalés dans vos efforts de dépôt de matériaux.
FAQ
Qu'est-ce Qu'un Four Tubulaire Et Comment Fonctionne-t-il ?
Quelles Sont Les Principales Applications Des Fours Tubulaires Multizones ?
Quel Est Le Principe D'une Machine CVD ?
Qu'est-ce Qu'un Four Tubulaire Vertical ?
Qu'est-ce Qu'un Four à Induction Sous Vide ?
Quelles Sont Les Principales Applications D'un Four à Vide ?
À Quoi Sert Une Machine PECVD ?
À Quoi Sert Un Four Atmosphérique ?
Quelles Sont Les Principales Applications Des Fours Tubulaires ?
Quelles Sont Les Principales Caractéristiques Des Fours Tubulaires Multizones ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'une Machine CVD ?
Quelles Sont Les Applications D'un Four Tubulaire Vertical ?
Quelles Sont Les Principales Applications Des Fours à Induction Sous Vide ?
Quelles Sont Les Principales Caractéristiques D'un Four à Vide ?
Quels Sont Les Principaux Types De Machines PECVD ?
Quelles Sont Les Principales Caractéristiques D'un Four à Atmosphère ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four Tubulaire ?
Comment Fonctionne Un Four Tubulaire Multizone ?
Quelles Sont Les Applications D'une Machine CVD ?
Quels Sont Les Avantages D'un Four Tubulaire Vertical ?
Comment Fonctionne Un Four à Induction Sous Vide ?
Comment Fonctionne Un Four à Vide ?
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Comment Fonctionne Un Four à Atmosphère ?
Quels Sont Les Types De Fours Tubulaires Disponibles ?
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Comment Fonctionne Un Four à Tube Vertical ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four à Induction Sous Vide ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four Sous Vide ?
Quelles Sont Les Principales Caractéristiques D'une Machine PECVD ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four à Atmosphère ?
Quelles Plages De Température Les Fours Tubulaires Peuvent-ils Atteindre ?
Quels Sont Les Types De Fours Tubulaires Multizones Disponibles ?
Quels Sont Les Types De Machines CVD Disponibles ?
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Quels Sont Les Types De Fours à Induction Sous Vide Disponibles ?
Quels Types De Matériaux Peuvent être Traités Dans Un Four à Vide ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'une Machine PECVD ?
Quels Types De Gaz Peuvent être Utilisés Dans Un Four à Atmosphère ?
Les Fours Tubulaires Peuvent-ils Fonctionner Sous Différentes Atmosphères ?
Pourquoi Choisir Un Four Tubulaire Vertical Plutôt Qu'horizontal ?
Pourquoi Le Contrôle De La Température Est-il Important Dans Les Fours à Induction Sous Vide ?
Quelle Est La Différence Entre Les Fours à Vide à Paroi Chaude Et à Paroi Froide ?
Quels Sont Les Matériaux Qui Peuvent être Déposés à L'aide D'une Machine PECVD ?
Quels Sont Les Dispositifs De Sécurité Disponibles Dans Les Fours à Atmosphère Avancés ?
Qu'est-ce Qui Rend Les Fours Tubulaires KINTEK Si Spéciaux ?
Quelles Plages De Température Les Fours Tubulaires Verticaux Peuvent-ils Atteindre ?
Quels Matériaux Peuvent être Traités Dans Un Four à Induction Sous Vide ?
Les Fours à Vide Peuvent-ils être Personnalisés Pour Des Applications Spécifiques ?
Pourquoi La PECVD Est-elle Préférée à D'autres Méthodes De Dépôt ?
Les Fours Tubulaires Verticaux Sont-ils Personnalisables ?
Quels Sont Les Avantages De L'environnement Sous Vide Pour Le Traitement Des Matériaux ?
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Incredible precision and durability! This CVD furnace exceeded all expectations. Worth every penny!
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Fast delivery and top-notch quality. The machine works flawlessly—highly recommend!
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A game-changer for our lab! The versatility and performance are unmatched.
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