
CVD & PECVD Furnace
Four tubulaire CVD à chambre divisée avec machine CVD à station de vide
Numéro d'article : KT-CTF12
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Température maximale
- 1200℃
- Diamètre du tube du four
- 60 mm
- Vitesse de chauffage
- 0-20℃/min

Livraison:
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Détail&Pièces




Présentation de l'entreprise
S'appuyant sur une R&D exceptionnelle et une fabrication en interne, KINTEK fournit des solutions avancées de fours à haute température adaptées aux divers besoins des laboratoires. Le four à tube CVD à chambre divisée de KINTEK est équipé d'un contrôleur intégré. Four tubulaire CVD à chambre divisée avec station de vide en est un exemple, offrant un système polyvalent et de haute performance méticuleusement conçu pour les applications exigeantes de dépôt chimique en phase vapeur (CVD).
Ce four est conçu pour la précision et la facilité d'utilisation. Les principales caractéristiques qui profitent à votre recherche sont les suivantes
- Chambre de four divisée : Permet un accès direct aux échantillons de réaction et facilite un refroidissement rapide, ce qui améliore considérablement l'efficacité et le rendement des expériences.
- Capacité à haute température : Utilise un tube de quartz de haute pureté (diamètre standard de 60 mm, options personnalisables disponibles) adapté aux processus nécessitant des températures allant jusqu'à 1200°C.
- Contrôle précis des gaz : Équipé d'un débitmètre massique MFC à 4 canaux, il assure une distribution précise et stable des gaz de source tels que CH4, H2, O2 et N2 pour des résultats de processus cohérents.
- Station de vide intégrée : Comprend une pompe à vide robuste à palettes 4L/S, capable d'atteindre une pression de vide maximale de 10 Pa, garantissant un environnement optimal pour divers procédés sous vide.
Chez KINTEK, nous comprenons que les exigences expérimentales uniques nécessitent des solutions flexibles. Notre forte capacité de personnalisation signifie que, bien que ce système soit doté de caractéristiques avancées idéales pour la science des matériaux, le traitement des semi-conducteurs et la recherche et le développement de pointe, nous pouvons l'adapter davantage à vos besoins spécifiques. Notre expertise couvre une gamme complète de produits, y compris les fours à moufle, les fours tubulaires, les fours rotatifs, les fours à vide et à atmosphère, et les systèmes CVD/PECVD/MPCVD avancés, ce qui nous permet de vous fournir la solution parfaite pour votre travail.
Vous êtes prêt à améliorer vos capacités de recherche ou à discuter d'une configuration personnalisée pour vos procédés CVD ? Contactez nos spécialistes dès aujourd'hui pour découvrir comment le four tubulaire CVD à chambre divisée peut être adapté à vos exigences expérimentales précises et pour demander un devis.
Applications
Le four tubulaire CVD à chambre divisée avec station de vide est un équipement polyvalent et avancé conçu pour diverses applications dans les domaines de la science des matériaux, de la fabrication de semi-conducteurs et de la recherche et du développement. Cette machine est particulièrement utile pour les procédés qui nécessitent un contrôle précis de la température, du débit de gaz et des niveaux de vide, ce qui en fait un outil essentiel pour la synthèse et le traitement de matériaux de haute qualité.
- Synthèse de nanomatériaux : Le four est idéal pour la croissance de nanofils, de nanofilms et d'autres matériaux nanostructurés, qui sont essentiels au développement de dispositifs électroniques et optoélectroniques avancés.
- Enduction sous vide : Il est largement utilisé pour le dépôt de films minces sur divers substrats, notamment des films métalliques, des films céramiques et des films composites, qui sont essentiels pour améliorer les propriétés des matériaux dans des applications telles que l'optique et l'électronique.
- Traitement des matériaux de batteries : Le four est adapté au séchage et au frittage des matériaux de batteries, qui constituent une étape critique dans la production de batteries de haute performance.
- Séchage et frittage de matériaux : Il est utilisé pour le frittage à haute température des céramiques, des matériaux réfractaires et des matériaux spéciaux, assurant la consolidation et la densification de ces matériaux.
- Traitement thermique sous atmosphère et sous vide : La configuration du four tubulaire vertical permet la trempe, le recuit et le revenu de petites pièces d'acier, ainsi que le revêtement CVD vertical, ce qui en fait un atout précieux dans les processus métallurgiques.
- Recherche et développement : Ce four est largement utilisé dans les universités, les instituts de recherche et les entreprises industrielles et minières pour mener des expériences à haute température, des expériences de frittage sous atmosphère, des expériences sous atmosphère réductrice et des expériences CVD/CVI, contribuant ainsi au progrès de la science et de la technologie des matériaux.
Caractéristiques
Le four tubulaire CVD à chambre divisée avec station de vide est un équipement sophistiqué conçu pour les processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) avancés. Ce four intègre une technologie de pointe pour améliorer l'efficacité et la qualité du dépôt de film, ce qui le rend idéal pour la recherche et les applications industrielles. Voici les principales caractéristiques et leurs avantages :
- Vitesse élevée de dépôt de film : Utilisant la technologie de l'incandescence par radiofréquence, ce four augmente considérablement la vitesse de dépôt des films, qui peut atteindre 10Å/S. Cette rapidité de dépôt est essentielle pour les applications de haute technologie. Ce dépôt rapide est essentiel pour la production et la recherche à haut débit, car il permet de gagner du temps et d'augmenter la productivité.
- Grande uniformité de surface : Grâce à une technologie avancée d'alimentation RF multipoint et à une distribution spécialisée des gaz, le four garantit une uniformité du film pouvant atteindre 8 %. Cette uniformité est essentielle pour créer des revêtements cohérents et de haute qualité sur de grands substrats, améliorant ainsi la fiabilité des matériaux produits.
- Dépôt cohérent : La conception intègre des concepts avancés de l'industrie des semi-conducteurs, ce qui se traduit par un écart de moins de 2 % entre les substrats. Ce haut niveau de cohérence est essentiel pour les applications qui exigent des résultats précis et reproductibles, par exemple dans la production de composants électroniques.
- Contrôle stable du processus : La grande stabilité de l'équipement garantit la continuité et la cohérence du processus CVD. Cette fiabilité est essentielle pour maintenir l'intégrité du procédé et réduire le risque de défauts ou de défaillances en cours de fonctionnement.
- Système de contrôle intelligent : Breveté par Bonage, le système de contrôle intégré comprend un système de contrôle de la température très performant qui utilise un mécanisme de rétroaction négative en boucle fermée. Ce système, associé à des composants électriques importés de haute qualité, améliore les performances globales et la fiabilité de l'équipement, qui ne nécessite pratiquement pas d'entretien.
- Applications polyvalentes : Adapté au dépôt de divers types de films, y compris les films métalliques, céramiques et composites, le four prend en charge les processus de croissance continue et peut être facilement complété par des fonctions supplémentaires telles que le nettoyage et la gravure au plasma. Cette polyvalence en fait un atout précieux pour répondre aux divers besoins de la recherche et de la production.
Principe
Le four tubulaire CVD à chambre divisée avec station de vide est un four sous vide à haute température utilisé pour les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Le dépôt en phase vapeur est un procédé dans lequel un film mince de matériau est déposé sur un substrat par la réaction chimique d'un gaz ou d'une vapeur. Le four tubulaire CVD à chambre divisée avec station de vide utilise une chambre de four divisée pour faciliter l'accès au substrat pendant le processus CVD. La station de vide est utilisée pour créer un vide dans la chambre du four, ce qui permet d'éliminer les impuretés et d'améliorer la qualité du film déposé.
Avantages
- Observation intuitive de l'échantillon et refroidissement rapide : La chambre du four divisée permet une observation directe des échantillons de réaction et un refroidissement rapide.
- Capacité de température élevée : Température de travail maximale de 1200℃ pour des applications polyvalentes.
- Contrôle précis des gaz : le débitmètre massique MFC à 4 canaux avec sources CH4, H2, O2 et N2 assure une alimentation en gaz précise et stable.
- Compatibilité avec le vide : La station de vide avec une pompe à vide à palettes 4L/S atteint une pression de vide maximale de 10Pa, permettant divers processus sous vide.
- Chauffage et refroidissement à grande vitesse : Le système de glissement de la chambre du four facilite le chauffage et le refroidissement rapides pour un traitement efficace des échantillons.
- Contrôle avancé de la température : Contrôle de la température programmable PID avec une excellente précision, un contrôle à distance et des capacités de contrôle centralisé.
- Interface conviviale : Le contrôleur CTF Pro, doté d'un écran tactile TFT de 7 pouces, permet un réglage intuitif des programmes et une analyse des données.
- Configuration polyvalente du vide : La bride de vide en acier inoxydable avec ports adaptables s'adapte à différentes stations de pompes à vide pour des environnements de vide personnalisés.
- Efficacité énergétique : Le système de refroidissement à l'eau et la conception de l'écoulement des gaz minimisent la consommation d'énergie.
- Vaste champ d'application : Convient pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), la diffusion et d'autres traitements thermiques sous vide et protection atmosphérique.
Avantage de la sécurité
- Le four tubulaire Kindle Tech possède une protection contre les surintensités et une fonction d'alarme en cas de surchauffe, le four s'éteint automatiquement.
- Le four est équipé d'une fonction de détection de couple thermique, le four arrêtera de chauffer et l'alarme se déclenchera dès qu'une panne ou une défaillance sera détectée.
- KT-CTF12 Pro prend en charge la fonction de redémarrage en cas de panne de courant, le four reprend le programme de chauffage lorsque le courant est rétabli après une panne.
Caractéristiques techniques
Modèle du four | KT-CTF12-60 |
---|---|
Température maximale | 1200℃ |
Température de travail constante | 1100℃ |
Matériau du tube du four | Quartz de haute pureté |
Diamètre du tube du four | 60 mm |
Longueur de la zone de chauffage | 1x450mm |
Matériau de la chambre | Fibre d'alumine japonaise |
Élément chauffant | Bobine de fil Cr2Al2Mo2 |
Vitesse de chauffe | 0-20℃/min |
Couple thermique | Type K intégré |
Contrôleur de température | Régulateur PID numérique/écran tactile |
Précision du contrôle de la température | ±1℃ |
Distance de glissement | 600 mm |
Unité de contrôle précis du gaz | |
Débitmètre | Débitmètre massique MFC |
Canaux de gaz | 4 canaux |
Débit |
MFC1 : 0-5SCCM O2
MFC2 : 0-20SCMCH4 MFC3 : 0- 100SCCM H2 MFC4 : 0-500 SCCM N2 |
Linéarité | ±0,5 % DE L'E.M. |
Répétabilité | ±0,2 % DE L'E.M. |
Tuyau et vanne | Acier inoxydable |
Pression de fonctionnement maximale | 0,45 MPa |
Contrôleur de débitmètre | Contrôleur numérique à bouton/écran tactile |
Unité de vide standard (en option) | |
Pompe à vide | Pompe à vide à palettes |
Débit de la pompe | 4L/S |
Orifice d'aspiration du vide | KF25 |
Jauge à vide | Jauge à vide Pirani/Résistance en silicone |
Pression nominale du vide | 10Pa |
Unité de vide poussé (en option) | |
Pompe à vide | Pompe à palettes+pompe moléculaire |
Débit de la pompe | 4L/S+110L/S |
Port d'aspiration du vide | KF25 |
Jauge à vide | Jauge à vide composée |
Pression nominale du vide | 6x10-5Pa |
Les spécifications et configurations ci-dessus peuvent être personnalisées |
Paquet standard
Non. | Description | Quantité |
---|---|---|
1 | Fourneau | 1 |
2 | Tube de quartz | 1 |
3 | Bride à vide | 2 |
4 | Bloc thermique du tube | 2 |
5 | Crochet du bloc thermique du tube | 1 |
6 | Gant résistant à la chaleur | 1 |
7 | Contrôle précis du gaz | 1 |
8 | Unité de vide | 1 |
9 | Manuel d'utilisation | 1 |
Configuration en option
- Détection et surveillance des gaz dans le tube, comme H2, O2, etc.
- Surveillance et enregistrement indépendants de la température du four
- Port de communication RS 485 pour le contrôle à distance par PC et l'exportation de données
- Contrôle du débit d'alimentation des gaz insérés, comme le débitmètre massique et le débitmètre à flotteur
- Contrôleur de température à écran tactile avec des fonctions polyvalentes et conviviales pour l'opérateur
- Installation d'une station de pompage à vide poussé, comme une pompe à vide à palettes, une pompe moléculaire ou une pompe à diffusion.
Pour toute demande de personnalisation ou pour en savoir plus sur la façon dont KINTEK peut répondre à vos besoins spécifiques en matière de recherche, veuillez remplir notre formulaire de contact ou contactez notre équipe d'experts.
FAQ
Qu'est-ce Qu'un Four Tubulaire Et Comment Fonctionne-t-il ?
Quelles Sont Les Principales Applications Des Fours Tubulaires Multizones ?
Quel Est Le Principe D'une Machine MPCVD ?
À Quoi Sert Une Machine PECVD ?
Quelles Sont Les Principales Applications D'un Four à Vide ?
Qu'est-ce Qu'un Four Tubulaire Vertical ?
À Quoi Sert Un Four Atmosphérique ?
Qu'est-ce Qu'un Four à Induction Sous Vide ?
Quel Est Le Principe D'une Machine CVD ?
Quelles Sont Les Principales Applications Des Fours Tubulaires ?
Quelles Sont Les Principales Caractéristiques Des Fours Tubulaires Multizones ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'une Machine MPCVD ?
Quels Sont Les Principaux Types De Machines PECVD ?
Quelles Sont Les Principales Caractéristiques D'un Four à Vide ?
Quelles Sont Les Applications D'un Four Tubulaire Vertical ?
Quelles Sont Les Principales Caractéristiques D'un Four à Atmosphère ?
Quelles Sont Les Principales Applications Des Fours à Induction Sous Vide ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'une Machine CVD ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four Tubulaire ?
Comment Fonctionne Un Four Tubulaire Multizone ?
Quelles Sont Les Principales Applications Des Machines MPCVD ?
Comment Fonctionne Une Machine PECVD ?
Comment Fonctionne Un Four à Vide ?
Quels Sont Les Avantages D'un Four Tubulaire Vertical ?
Comment Fonctionne Un Four à Atmosphère ?
Comment Fonctionne Un Four à Induction Sous Vide ?
Quelles Sont Les Applications D'une Machine CVD ?
Quels Sont Les Types De Fours Tubulaires Disponibles ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four Tubulaire Multizone ?
Quels Sont Les Principaux Composants D'une Machine MPCVD ?
Quelles Sont Les Principales Caractéristiques D'une Machine PECVD ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four Sous Vide ?
Comment Fonctionne Un Four à Tube Vertical ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four à Atmosphère ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four à Induction Sous Vide ?
Quelles Sont Les Principales Caractéristiques D'une Machine CVD ?
Quelles Plages De Température Les Fours Tubulaires Peuvent-ils Atteindre ?
Quels Sont Les Types De Fours Tubulaires Multizones Disponibles ?
Comment Une Machine MPCVD Améliore-t-elle L'efficacité énergétique ?
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'une Machine PECVD ?
Quels Types De Matériaux Peuvent être Traités Dans Un Four à Vide ?
Quels Sont Les Types De Fours Tubulaires Verticaux Disponibles ?
Quels Types De Gaz Peuvent être Utilisés Dans Un Four à Atmosphère ?
Quels Sont Les Types De Fours à Induction Sous Vide Disponibles ?
Quels Sont Les Types De Machines CVD Disponibles ?
Les Fours Tubulaires Peuvent-ils Fonctionner Sous Différentes Atmosphères ?
Pourquoi La Technique MPCVD Est-elle Privilégiée Pour La Croissance Du Diamant ?
Quels Sont Les Matériaux Qui Peuvent être Déposés à L'aide D'une Machine PECVD ?
Quelle Est La Différence Entre Les Fours à Vide à Paroi Chaude Et à Paroi Froide ?
Pourquoi Choisir Un Four Tubulaire Vertical Plutôt Qu'horizontal ?
Quels Sont Les Dispositifs De Sécurité Disponibles Dans Les Fours à Atmosphère Avancés ?
Pourquoi Le Contrôle De La Température Est-il Important Dans Les Fours à Induction Sous Vide ?
Qu'est-ce Qui Rend Les Fours Tubulaires KINTEK Si Spéciaux ?
Pourquoi La PECVD Est-elle Préférée à D'autres Méthodes De Dépôt ?
Les Fours à Vide Peuvent-ils être Personnalisés Pour Des Applications Spécifiques ?
Quelles Plages De Température Les Fours Tubulaires Verticaux Peuvent-ils Atteindre ?
Quels Matériaux Peuvent être Traités Dans Un Four à Induction Sous Vide ?
Les Fours Tubulaires Verticaux Sont-ils Personnalisables ?
Quels Sont Les Avantages De L'environnement Sous Vide Pour Le Traitement Des Matériaux ?
4.9
out of
5
Incredible precision and speed! This furnace exceeded my expectations for lab efficiency.
4.8
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5
Top-notch quality and durability. A game-changer for our research team!
4.7
out of
5
Fast delivery and easy setup. The vacuum station works flawlessly.
4.9
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Worth every penny! The split chamber design is a brilliant innovation.
4.8
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5
Perfect for high-temperature applications. Highly recommend for advanced labs.
4.9
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Exceptional performance and reliability. Our experiments have never been smoother.
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Love the compact design! Saves space without compromising on power.
4.8
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The vacuum seal is impeccable. No leaks, no issues—just perfect results.
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Cutting-edge technology at its finest. A must-have for serious researchers.
4.8
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Superb value for money. The build quality is outstanding.
4.7
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Quick and efficient service. The furnace arrived in perfect condition.
4.9
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5
The split chamber feature is revolutionary. Makes multitasking a breeze.
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Reliable and consistent performance. Our lab productivity has soared.
4.7
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5
Easy to operate and maintain. A fantastic investment for any lab.
4.9
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The temperature control is spot-on. Perfect for delicate experiments.
4.8
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Durable and built to last. This machine is a workhorse.
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5
Innovative design meets superior functionality. Absolutely love it!
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Four tubulaire CVD à chambre divisée avec machine CVD à station de vide
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