Produits High Temperature Furnaces MPCVD Machine MPCVD Système Réacteur Résonateur à cloche pour laboratoire et croissance de diamants
Machine MPCVD Système Réacteur Résonateur à cloche pour laboratoire et croissance de diamants

MPCVD

Machine MPCVD Système Réacteur Résonateur à cloche pour laboratoire et croissance de diamants

Numéro d'article : KTMP315

Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations


Puissance des micro-ondes
1~10 kW
Surface de croissance du substrat
3 pouces
Charge maximale par lot
45 pièces de diamant
ISO & CE icon

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Devis

Améliorez votre synthèse de diamant avec KINTEK

S'appuyant sur une R&D exceptionnelle et une fabrication interne, KINTEK fournit des systèmes de dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes (MPCVD) à la pointe de la technologie. Nos machines sont méticuleusement conçues pour la fiabilité, l'efficacité et la production constante de diamants de haute pureté et de haute qualité, répondant aux divers besoins des laboratoires et de l'industrie.

Pourquoi les systèmes MPCVD de KINTEK sont-ils votre premier choix ?

Chez KINTEK, nous nous engageons à faire progresser la technologie de synthèse du diamant. Nos systèmes MPCVD offrent une combinaison convaincante de performance, d'innovation et de support :

  • Fiabilité et performance inégalées : Avec une stabilité opérationnelle documentée dépassant les 40 000 heures, notre équipement MPCVD établit la norme de l'industrie en matière de fiabilité, de répétabilité et de rentabilité. Vous pouvez faire confiance aux systèmes KINTEK pour obtenir des résultats constants, cycle après cycle.
  • Une technologie de pointe : Nous réinvestissons continuellement dans la recherche et le développement, en mettant en œuvre de multiples mises à jour et améliorations. Cet engagement se traduit par des systèmes MPCVD dont l'efficacité est considérablement améliorée et les coûts opérationnels réduits pour nos clients.
  • Principaux avantages du système :
    • Zone de croissance spacieuse : La zone de croissance du substrat est de 3 pouces, ce qui permet d'accueillir une charge maximale de 45 pièces de diamant.
    • Efficacité énergétique : Équipé d'une puissance de micro-ondes réglable de 1 à 10 kW, il minimise la consommation d'électricité sans compromettre les performances.
    • Transfert de connaissances d'experts : Bénéficiez du soutien de notre équipe de recherche très expérimentée, y compris de l'accès à des recettes de culture de diamants d'avant-garde.
    • Assistance complète pour tous les utilisateurs : Nous proposons un programme d'assistance technique exclusif, qui permet même aux équipes n'ayant aucune expérience de la culture du diamant de réussir.

Une vitrine visuelle : L'avantage MPCVD de KINTEK en action

Voyez les résultats remarquables et l'ingénierie de précision de notre technologie MPCVD :

Nouveau modèle de machine à diamant MPCVD
Nouveau modèle de machine à diamant KINTEK MPCVD
Diamant brut cultivé par la machine MPCVD de KINTEK
Diamant brut cultivé par la machine MPCVD de KINTEK
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent.
Dans la machine MPCVD de KINTEK, les diamants poussent.
Diamants cultivés par MPCVD après polissage
Diamants cultivés par MPCVD après polissage
Polycristallin par KinTek MPCVD
Diamant polycristallin cultivé par KinTek MPCVD

Comprendre la technologie MPCVD

La technique MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) est une technique avancée permettant de synthétiser des films et des monocristaux de diamant de haute qualité. Elle consiste à créer un plasma généré par micro-ondes à partir de gaz contenant du carbone (comme le méthane, CH4) mélangés à d'autres gaz (comme H2, Ar, O2, N2) dans une chambre à vide. Ce plasma facilite le dépôt précis d'atomes de carbone sur un substrat, ce qui permet la croissance contrôlée du matériau diamant.

Avantages généraux de la méthode MPCVD :

Comparée à d'autres techniques de synthèse telles que la méthode haute pression haute température (HPHT), la méthode MPCVD offre plusieurs avantages clés :

  • Diamants d'une plus grande pureté : Le plasma sans contact et l'environnement contrôlé minimisent la contamination.
  • Consommation d'énergie plus faible : Généralement plus économe en énergie que la HPHT.
  • Possibilité d'obtenir des diamants plus grands : Bien adapté à la croissance de diamants monocristallins de plus grande taille et de films étendus.
  • Contrôle polyvalent des gaz : Permet l'utilisation de plusieurs gaz, ce qui offre une certaine souplesse dans le réglage des propriétés du diamant.
  • Traitement stable : Elle permet un réglage en douceur de la puissance des micro-ondes et un contrôle stable de la température, ce qui est essentiel pour obtenir une qualité constante et éviter des problèmes tels que la perte de cristaux de semence.

Ces caractéristiques font de la MPCVD une méthode prometteuse et largement adoptée pour les applications industrielles et la recherche avancée, en particulier lorsque la haute qualité et la croissance contrôlée sont primordiales.

Diverses applications, débloquées par la MPCVD de KINTEK

Les systèmes MPCVD de KINTEK sont conçus pour répondre aux exigences de diverses applications de pointe, en tirant parti des propriétés uniques du diamant telles qu'une dureté exceptionnelle, une rigidité élevée, une conductivité thermique supérieure, une faible dilatation thermique, une dureté aux radiations et une inertie chimique :

  • Pierres précieuses cultivées en laboratoire : Production de diamants de grande taille et de haute qualité pour le marché de la bijouterie à un coût compétitif, offrant une alternative éthique et durable.
  • Industrie des semi-conducteurs : Permettre la croissance de substrats diamantés de grande surface et de grande pureté, cruciaux pour l'électronique de puissance de la prochaine génération, l'informatique quantique et les capteurs avancés.
  • Composants optiques : Création de films et de fenêtres en diamant présentant une transmission optique, une stabilité thermique et une durabilité supérieures pour les lasers et autres systèmes optiques.
  • Outils industriels : Fabrication d'outils de coupe, de forage et de meulage revêtus de diamants très durables pour l'usinage de matériaux durs et abrasifs.
  • Recherche et développement : Fournir une plate-forme polyvalente et fiable aux chercheurs universitaires et industriels qui explorent de nouveaux matériaux diamantés, de nouvelles techniques de dopage et de nouvelles applications.

Notre technologie MPCVD offre un avantage significatif par rapport aux méthodes HPHT traditionnelles, en particulier pour les applications nécessitant des diamants de grande taille et de grande pureté. Cela positionne les systèmes KINTEK comme une solution idéale pour les marchés des semi-conducteurs, de l'optique et de la joaillerie moderne, en stimulant l'innovation et en offrant de nouvelles possibilités.

En profondeur : Conception et fonctionnement des systèmes MPCVD de KINTEK

Comment fonctionnent nos systèmes MPCVD (processus de travail)

La machine KINTEK MPCVD contrôle méticuleusement le débit de chaque voie de gaz (gaz réactifs tels que CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) et la pression de la cavité. Les gaz sont introduits dans la cavité à des pressions spécifiques, définies par la recette. Après avoir stabilisé le flux d'air, un générateur de micro-ondes à semi-conducteurs de 6KW (ou d'une autre puissance spécifiée) produit des micro-ondes qui sont ensuite guidées dans la cavité à travers un guide d'ondes.

Dans le champ de micro-ondes, le gaz de réaction se transforme en plasma, formant une boule de plasma stable qui plane précisément au-dessus du substrat de diamant. La chaleur intense du plasma porte le substrat à la température de croissance optimale. L'excès de chaleur généré à l'intérieur de la cavité est efficacement dissipé par une unité de refroidissement par eau intégrée.

Pour garantir des conditions de croissance optimales pendant le processus de croissance du diamant monocristallin MPCVD, les opérateurs peuvent ajuster avec précision des facteurs tels que la puissance des micro-ondes, la composition de la source de gaz et la pression de la cavité. L'un des principaux avantages est que la boule de plasma n'entre pas en contact avec la paroi de la cavité, ce qui garantit que le processus de croissance du diamant est exempt d'impuretés, améliorant ainsi de manière significative la qualité et la pureté du diamant.

Composants et détails du système

Composant du système à micro-ondes de la machine KINTEK MPCVD

Système à micro-ondes

Chambre de réaction de la machine KINTEK MPCVD

Chambre de réaction

Système de flux de gaz pour KINTEK MPCVD

Système de flux de gaz

Système de vide et de capteurs du KINTEK MPCVD

Système de vide et de capteurs

Simulation de plasma pour KINTEK MPCVD
Simulation du plasma MPCVD de KinTek pour une croissance optimisée

Spécifications techniques complètes

Système à micro-ondes
  • Fréquence des micro-ondes 2450±15MHZ,
  • Puissance de sortie 1~10 KW réglable en continu
  • Stabilité de la puissance de sortie des micro-ondes : <±1%
  • Fuite de micro-ondes ≤2MW/cm2
  • Interface de guide d'ondes de sortie : WR340, 430 avec bride standard FD-340, 430
  • Débit d'eau de refroidissement : 6-12L/min
  • Coefficient d'onde stationnaire du système : VSWR ≤ 1.5
  • Réglage manuel des micro-ondes à 3 broches, cavité d'excitation, charge haute puissance
  • Alimentation d'entrée : 380VAC/50Hz ± 10%, triphasé
Chambre de réaction
  • Taux de fuite du vide<5 × 10-9 Pa .m3/s
  • La pression limite est inférieure à 0,7 Pa (configuration standard avec jauge à vide Pirani).
  • L'augmentation de la pression de la chambre ne doit pas dépasser 50 Pa après 12 heures de maintien de la pression.
  • Mode de fonctionnement de la chambre de réaction : Mode TM021 ou TM023
  • Type de cavité : Cavité résonnante papillon, d'une puissance maximale de 10 kW, en acier inoxydable 304, avec une couche intermédiaire refroidie à l'eau et une méthode d'étanchéité par plaque de quartz de haute pureté.
  • Mode d'admission d'air : Prise d'air uniforme annulaire supérieure
  • Scellage sous vide : Le raccord inférieur de la chambre principale et la porte d'injection sont scellés par des anneaux en caoutchouc, la pompe à vide et le soufflet sont scellés par du KF, la plaque de quartz est scellée par un anneau métallique en C, et le reste est scellé par du CF.
  • Fenêtre d'observation et de mesure de la température : 4 ports d'observation
  • Port de chargement de l'échantillon à l'avant de la chambre
  • Décharge stable dans la plage de pression de 0,7KPa~30KPa (la pression d'alimentation doit être adaptée)
Porte-échantillon
  • Diamètre de la table d'échantillonnage≥70mm, surface d'utilisation effective≥64 mm
  • Plate-forme de la plaque de base, structure sandwich refroidie à l'eau
  • Le porte-échantillon peut être soulevé et abaissé uniformément électriquement dans la cavité.
Système de flux de gaz
  • Disque d'air pour le soudage de tous les métaux
  • Des joints de soudure ou des joints VCR doivent être utilisés pour tous les circuits de gaz internes de l'équipement.
  • Débitmètre MFC à 5 canaux, H2/CH4/O2/N/Ar. H2 : 1000 sccm ;CH4:100 sccm ; O2 : 2 sccm ; N2 : 2 sccm ; Ar : 10 sccm
  • Pression de travail 0,05-0,3MPa, précision ±2%.
  • Contrôle indépendant des vannes pneumatiques pour chaque débitmètre de canal
Système de refroidissement
  • 3 lignes de refroidissement par eau, surveillance en temps réel de la température et du débit.
  • Le débit d'eau de refroidissement du système est ≤ 50L/min.
  • La pression de l'eau de refroidissement est <4KG, et la température de l'eau d'entrée est de 20-25 ℃.
Capteur de température
  • Le thermomètre infrarouge externe a une plage de température de 300-1400 ℃.
  • Précision du contrôle de la température < 2 ℃ ou 2 %.
Système de contrôle
  • L'automate Siemens smart 200 et le contrôle par écran tactile sont adoptés.
  • Le système dispose d'une variété de programmes, qui peuvent réaliser l'équilibre automatique de la température de croissance, le contrôle précis de la pression de l'air de croissance, l'augmentation automatique de la température, la baisse automatique de la température et d'autres fonctions.
  • La surveillance du débit d'eau, de la température, de la pression et d'autres paramètres permet d'assurer un fonctionnement stable et une protection complète de l'équipement. La fiabilité et la sécurité du fonctionnement peuvent être garanties par un verrouillage fonctionnel.
Fonction optionnelle
  • Système de surveillance du centre
  • Puissance d'ancrage du substrat

Partenaire de KINTEK pour vos besoins en matériaux avancés

KINTEK est un leader reconnu dans la fourniture de solutions avancées de fours à haute température, soutenues par des capacités exceptionnelles de R&D et une fabrication interne dédiée. Notre vaste gamme de produits, qui comprend des fours à moufle, des fours tubulaires, des fours rotatifs, des fours sous vide et à atmosphère, ainsi que des systèmes CVD/PECVD/MPCVD spécialisés, témoigne de notre vaste expertise en matière de traitement thermique et de science des matériaux. Nous sommes fiers de notre forte capacité de personnalisation, qui nous permet de répondre précisément à vos besoins uniques en matière de production expérimentale ou industrielle.

Prêt à révolutionner votre production de diamants ou votre recherche ?

Découvrez comment les systèmes MPCVD avancés de KINTEK peuvent améliorer vos capacités. Que vous vous concentriez sur la production de pierres précieuses, de matériaux semi-conducteurs, de composants optiques ou sur la recherche de pointe, notre équipe d'experts est là pour vous aider à trouver la solution parfaite. Nous proposons des consultations personnalisées, des spécifications détaillées et des systèmes sur mesure adaptés à vos besoins.

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FAQ

Quel Est Le Principe D'une Machine MPCVD ?

Une machine MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) utilise un générateur de micro-ondes pour produire du plasma en ionisant un mélange de gaz. Ce plasma est logé dans une chambre de réaction sous faible pression, où le substrat est maintenu en place par un porte-substrat. Les principaux composants sont un générateur de micro-ondes, une chambre à plasma, un système de distribution de gaz, un porte-substrat et un système de vide.

Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'une Machine MPCVD ?

Les machines MPCVD offrent plusieurs avantages : elles éliminent la contamination par les fils chauds (décharge non polaire), permettent l'utilisation de plusieurs gaz, assurent un contrôle stable de la température de réaction, permettent une décharge stable du plasma sur une grande surface et offrent un contrôle précis de l'épaisseur du film, de la pureté et de la qualité des cristaux. En outre, ils produisent des films de diamant de grande surface, garantissent des conditions stables, maintiennent une qualité d'échantillon constante et sont rentables.

Quelles Sont Les Principales Applications Des Machines MPCVD ?

Les machines MPCVD sont principalement utilisées pour la synthèse de diamants de haute pureté cultivés en laboratoire, y compris les films de diamant et d'autres matériaux avancés. Leurs applications s'étendent à la recherche sur les semi-conducteurs, à l'optique et aux MEMS (systèmes micro-électro-mécaniques) en raison de leur capacité à produire des films homogènes de haute qualité avec un contrôle précis.

Quels Sont Les Principaux Composants D'une Machine MPCVD ?

Les principaux composants d'une machine MPCVD comprennent un générateur de micro-ondes (pour produire du plasma), une chambre de réaction (pour loger le substrat et le mélange gazeux sous basse pression), un porte-substrat (pour maintenir le substrat pendant le dépôt), un système d'alimentation en gaz (pour introduire et contrôler le mélange gazeux) et un système de vide (pour maintenir l'environnement à basse pression nécessaire).

Comment Une Machine MPCVD Améliore-t-elle L'efficacité énergétique ?

Une machine MPCVD améliore l'efficacité énergétique grâce à son procédé sans électrode, qui réduit la contamination et la perte d'énergie. La génération de plasma par micro-ondes est très efficace, et la conception modulaire et évolutive du système permet d'optimiser l'utilisation de l'énergie dans diverses applications industrielles.

Pourquoi La Technique MPCVD Est-elle Privilégiée Pour La Croissance Du Diamant ?

La technique MPCVD est privilégiée pour la croissance du diamant car elle fournit une densité élevée de particules chargées et d'espèces réactives, permet le dépôt de films de diamant de grande surface à des pressions plus faibles et garantit une meilleure homogénéité dans les films tels qu'ils ont été produits. Ces caractéristiques permettent d'obtenir des diamants d'une grande pureté et d'une grande qualité, avec un contrôle précis de leurs propriétés.
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4.9

out of

5

Incredible precision and speed! Our lab's diamond growth has never been more efficient. Worth every penny!

Elara Voss

4.8

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Top-notch quality and durability. This machine is a game-changer for our research projects.

Rohan Khatri

4.7

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Fast delivery and easy setup. The technological advancement in this system is mind-blowing!

Sienna Moreau

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Exceptional value for money. The bell-jar resonator performs flawlessly under high pressure.

Nikolai Petrov

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Reliable and robust. Perfect for continuous lab use without any hiccups.

Ananya Desai

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Cutting-edge technology! Our diamond growth experiments have reached new heights.

Lucien Dubois

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Superb craftsmanship. The machine's durability is impressive even with heavy usage.

Zara Al-Mansoori

4.8

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Highly efficient and user-friendly. A must-have for any serious lab.

Mateo Silva

4.9

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Outstanding performance! The reactor bell-jar design is innovative and effective.

Yuki Tanaka

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Fast shipping and excellent customer support. The machine exceeded our expectations.

Alessio Romano

4.9

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5

Perfect for high-precision diamond growth. The build quality is unmatched.

Freya Olsen

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