La gamme de pression des systèmes CVD s'étend de la pression atmosphérique (760 Torr) à des niveaux de vide élevés (<5 mTorr), obtenus grâce à des pompes mécaniques et à la commande de vannes d'étranglement.Ces systèmes font preuve d'une grande polyvalence dans les applications industrielles, de l'électronique à l'aérospatiale, avec une gestion précise du flux de gaz (0-500 sccm) et un contrôle de la température jusqu'à 1700°C en fonction du matériau du tube.Leurs capacités de vide les placent dans la catégorie des fours à vide poussé (10^-3 à 10^-6 torr), adaptés à divers besoins de traitement des matériaux.
Explication des points clés :
-
Gamme de pression et mécanisme de contrôle
- Fonctionne de 0-760 Torr (de la pression atmosphérique au quasi-vide)
- Utilise un soupape d'étranglement pour une régulation réglable de la pression
- Vide de base de <5 mTorr obtenu par des pompes mécaniques
- Classés comme systèmes de fours à vide poussé (plage de 10^-3 à 10^-6 torr)
-
Température et compatibilité des matériaux des tubes
- Tubes en quartz:Max 1200°C (idéal pour les procédés CVD standard)
- Tubes d'alumine:Jusqu'à 1700°C pour les applications à haute température
- Le choix dépend de la compatibilité des matériaux (par exemple, graphène ou revêtements céramiques).
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Débit de gaz et contrôle du processus
- Deux canaux de gaz (Ar/H₂) avec des débits de débits de 0 à 500 sccm
- Les régulateurs de débit massique assurent une distribution précise du réactif
- Des systèmes informatisés maintiennent une distribution uniforme de la chaleur
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Applications industrielles
- Électronique:Revêtements de plaques semi-conductrices
- L'énergie:Couches antireflets pour panneaux solaires
- Matériaux avancés:Production de graphène pour les écrans et la filtration de l'eau
-
Flexibilité de la conception
- S'adapte à Tubes de quartz de 1 et 2 pouces
- Prise en charge du traitement par lots d'alliages durs/de céramiques par frittage sous vide
Vous êtes-vous déjà demandé comment ces plages de pression précises permettaient d'obtenir des revêtements d'une épaisseur de l'ordre du nanomètre sur les écrans de vos smartphones ? La synergie entre le contrôle du vide et la stabilité de la température permet aux systèmes CVD de déposer des matériaux atome par atome, révolutionnant tranquillement les industries, de l'électronique grand public à l'énergie durable.
Tableau récapitulatif :
| Caractéristique | Spécification |
|---|---|
| Gamme de pression | 0-760 Torr (de l'atmosphère au quasi-vide) |
| Vide de base | <5 mTorr (catégorie des fours à vide poussé) |
| Plage de température | Jusqu'à 1700°C (en fonction du matériau du tube) |
| Contrôle du débit de gaz | 0-500 sccm (deux canaux de gaz) |
| Applications | Électronique, énergie, matériaux avancés |
| Flexibilité de conception | Prend en charge les tubes de quartz de 1 et 2 pouces |
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