Produits Fours à haute température Dépôt chimique en phase vapeur assisté par micro-ondes 915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor
915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

Dépôt chimique en phase vapeur assisté par micro-ondes

915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

Numéro d'article : MP-CVD-101

Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations


Puissance de sortie
3-75kW réglable en continu
Diamètre du plateau d'échantillonnage
≥200mm
Fréquence de fonctionnement
915±15MHz
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Machine à diamant KINTEK MPCVD : Révolutionner la synthèse du diamant

La machine à diamant KINTEK MPCVD utilise le dépôt chimique en phase vapeur par plasma à micro-ondes (MPCVD) pour synthétiser des diamants de haute qualité avec une rapidité et une précision sans précédent. Cette technologie avancée permet une croissance plus rapide des cristaux, une capacité de production accrue et une meilleure qualité de diamant par rapport aux méthodes traditionnelles.

Aperçu visuel et composants clés

Détails MPCVD

Détails MPCVD

Débloquez une production de diamants supérieure avec KINTEK

Notre machine à diamant MPCVD offre des avantages significatifs pour vos besoins de synthèse de diamants :

  • Croissance accélérée des cristaux : Atteignez des vitesses de croissance de 10 à 100 fois plus rapides que les méthodes traditionnelles, ce qui augmente considérablement l'efficacité de la production.
  • Capacité de production accrue : Synthétisez des lots de diamants plus importants en une seule fois, maximisant ainsi votre production.
  • Qualité exceptionnelle des diamants : Produisez des diamants d'une dureté et d'une résistance supérieures à celles des diamants naturels, ce qui garantit une durabilité et des performances supérieures.
  • Diverses options de couleur : Créez des diamants de différentes couleurs, notamment blanc, jaune, rose et bleu, pour répondre aux diverses demandes du marché et aux préférences esthétiques.
  • Pureté inégalée : Atteignez des niveaux de pureté supérieurs à ceux des diamants naturels de type II, ce qui se traduit par des propriétés optiques exceptionnelles et une aptitude à des applications avancées.
  • Adapté à vos besoins : Bénéficiez d'une personnalisation multi-styles. Nous pouvons adapter les modèles pour répondre aux exigences spécifiques du marché et à des configurations expérimentales uniques.

La science derrière l'éclat : Technologie MPCVD avancée

Le dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes (MPCVD) est un processus sophistiqué dans lequel une source continue de micro-ondes génère et entretient un plasma hautement réactif. Ce plasma est composé de produits chimiques réactifs (généralement du méthane et de l'hydrogène) et de catalyseurs essentiels, qui sont ensuite utilisés pour cultiver de nouvelles couches de diamant sur un substrat ensemencé de diamants.

La machine KINTEK MPCVD Diamond permet un contrôle précis de la puissance des micro-ondes et de la température de réaction, éliminant ainsi les problèmes courants rencontrés dans les autres méthodes CVD. En optimisant la conception de la chambre de réaction et les paramètres du processus, elle permet d'obtenir une décharge de plasma stable - un facteur crucial pour la production constante de diamants monocristallins de grande qualité et de grande taille.

Des applications polyvalentes dans tous les secteurs

Les propriétés uniques des diamants produits par nos machines MPCVD - notamment une dureté et une rigidité exceptionnelles, une conductivité thermique élevée, une faible dilatation thermique, une dureté aux radiations et une inertie chimique - leur confèrent une valeur inestimable dans divers secteurs :

  • Industrie des pierres précieuses : L'équipement principal pour la culture de pierres précieuses en diamant de haute qualité et de grande taille.
  • Matériaux avancés et semi-conducteurs : Production de films diamantés pour diverses applications, notamment des substrats diamantés de grande taille pour l'industrie des semi-conducteurs et des outils de coupe ou de forage diamantés à haute performance.
  • Outils industriels : Développement de revêtements diamantés pour les outils de coupe, les trépans et d'autres applications industrielles pour lesquelles une dureté et une durabilité extrêmes sont primordiales.
  • Secteur biomédical : Création de revêtements diamantés biocompatibles et durables pour les implants médicaux, tels que les articulations artificielles et les implants dentaires.
  • Optoélectronique : Fabrication de fenêtres et de substrats en diamant pour les lasers à haute puissance, les détecteurs et d'autres dispositifs optoélectroniques pour lesquels une conductivité thermique élevée et une faible dilatation thermique sont essentielles.

Spécifications techniques

Système micro-ondes (selon l'alimentation optionnelle)

  • Fréquence de fonctionnement : 915±15MHz
  • Puissance de sortie : 3-75kW réglable en continu
  • Débit d'eau de refroidissement : 120/min
  • Coefficient d'ondes stationnaires du système : VSWR≤1.5
  • Fuite de micro-ondes :

Système de vide et chambre de réaction

  • Taux de fuite
  • La pression finale est inférieure à 0,7Pa (cette machine est équipée d'une jauge à vide Pirani importée).
  • L'augmentation de la pression dans la cavité ne doit pas dépasser 50Pa après 12 heures de maintien de la pression.
  • Mode de fonctionnement de la chambre de réaction : Mode TM021 ou TM023
  • Type de cavité : cavité cylindrique refroidie, peut supporter une puissance allant jusqu'à 75KW, haute pureté, joint d'étanchéité en pierre.
  • Méthode d'entrée : Entrée de la tête d'arrosage supérieure.
  • Fenêtre de mesure de la température d'observation : 8 trous d'observation, répartis uniformément à l'horizontale.
  • Orifice d'échantillonnage : orifice d'échantillonnage par le bas

Système de support d'échantillon

  • Diamètre de la platine d'échantillonnage ≥200mm, zone d'utilisation effective du monocristal ≥130mm, la zone d'utilisation effective du polycristallin est ≥200mm. Plate-forme du substrat : structure sandwich refroidie à l'eau, verticale droite vers le haut et vers le bas.

Système de gaz

  • Plaque de gaz entièrement soudée en métal 5-7 conduites de gaz.
  • Tous les circuits d'air internes de l'équipement utilisent des connecteurs soudés ou VCR.

Refroidissement du système

  • Refroidissement à l'eau à trois voies, contrôle en temps réel de la température et du débit.
  • Débit d'eau de refroidissement du système 120L/min, pression de l'eau de refroidissement

Méthode de mesure de la température

  • Thermomètre infrarouge externe, plage de température de 300 à 1400 M

Liste des pièces maîtresses de l'équipement SL901A

Numéro de série Nom du module Remarque
1 Alimentation en micro-ondes Magnétron domestique standard : Yingjie Electric / Distinguish power supply Source à semi-conducteurs domestique : Watson (+30 000) Magnétron importé : MKS/ pastoral (+100 000)
2 Guide d'onde, trois broches, convertisseur de mode, résonateur supérieur Fabriqué par nos soins
3 Chambre de réaction sous vide (chambre supérieure, chambre inférieure, connecteurs) Fabriquée par l'entreprise elle-même
4 Thermomètres infrarouges, composants de déplacement optique, supports Thermomètres infrarouges, composants de déplacement optique, supports Fuji Gold Siemens + Schneider
5 Refroidissement à l'eau des composants du mouvement de la table (cylindres, pièces, etc.)
6 Jauge à vide à couche mince en céramique, jauge à vide Pirani Inficon
7 Composants des vannes à vide (robinet-vanne à ultra-vide, vanne pneumatique de précision*2, vanne différentielle électromagnétique de chargement à vide) Fujikin + Zhongke + Himat
8 Pompe à vide et raccords de tuyauterie, té, soufflet KF25*2, adaptateur Pompe : Flyover 16L
9 Anneau métallique d'étanchéité aux micro-ondes*2 ; anneau métallique d'étanchéité au vide*1 ; plaque de quartz Quartz : Shanghai FeilihuaQuartz de haute pureté pour semi-conducteurs
10 Composants de l'eau de circulation (joints, blocs de dérivation, détecteurs de débit) SMC/CKD japonais
11 Composants pneumatiques (filtre CKD, électrovanne multivoie airtac, raccords de tuyauterie et adaptateurs)
12 Raccord de gaz, tuyau de gaz EP, raccord VCR, filtre 0.0023μm *1, filtre 10μm*2 Fujikin
13 Boîtier de machine, table en acier inoxydable, roues universelles, pieds, vis de fixation des supports, etc traitement sur mesure
14 Débitmètre de gaz*6 (y compris un contrôle de pression) Standard sept étoiles, en option Fuji Gold ( +34 000 ) / Alicat (42 000)
15 Traitement des plaques de gaz (gaz à 5 voies, filtre*5, vanne pneumatique*5, vanne manuelle*6, soudage des canalisations) Fuji Gold
16 Contrôle automatique PLC Siemens + Schneider
17 Table de molybdène

Partenaire de KINTEK pour vos besoins en matériaux avancés

S'appuyant sur une R&D exceptionnelle et une fabrication interne, KINTEK se spécialise dans les solutions de fours avancés à haute température comme la machine MPCVD pour diamants. Nous sommes fiers de notre forte capacité de personnalisation, garantissant que nos systèmes, y compris cet équipement de synthèse de diamant avancé, répondent précisément à vos exigences uniques en matière d'expérimentation et de production.

Prêt à améliorer votre synthèse de diamant ? La machine à diamant MPCVD de KINTEK offre une précision et une efficacité inégalées. Contactez-nous dès aujourd'hui pour discuter de vos besoins spécifiques et découvrir comment notre technologie peut améliorer vos opérations. Remplissez le formulaire ci-dessous ou cliquez ici pour commencer et demander un devis ou une consultation !

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FAQ

Quel Est Le Principe D'une Machine MPCVD ?

Une machine MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) utilise un générateur de micro-ondes pour produire du plasma en ionisant un mélange de gaz. Ce plasma est logé dans une chambre de réaction sous faible pression, où le substrat est maintenu en place par un porte-substrat. Les principaux composants sont un générateur de micro-ondes, une chambre à plasma, un système de distribution de gaz, un porte-substrat et un système de vide.

Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'une Machine MPCVD ?

Les machines MPCVD offrent plusieurs avantages : elles éliminent la contamination par les fils chauds (décharge non polaire), permettent l'utilisation de plusieurs gaz, assurent un contrôle stable de la température de réaction, permettent une décharge stable du plasma sur une grande surface et offrent un contrôle précis de l'épaisseur du film, de la pureté et de la qualité des cristaux. En outre, ils produisent des films de diamant de grande surface, garantissent des conditions stables, maintiennent une qualité d'échantillon constante et sont rentables.

Quelles Sont Les Principales Applications Des Machines MPCVD ?

Les machines MPCVD sont principalement utilisées pour la synthèse de diamants de haute pureté cultivés en laboratoire, y compris les films de diamant et d'autres matériaux avancés. Leurs applications s'étendent à la recherche sur les semi-conducteurs, à l'optique et aux MEMS (systèmes micro-électro-mécaniques) en raison de leur capacité à produire des films homogènes de haute qualité avec un contrôle précis.

Quels Sont Les Principaux Composants D'une Machine MPCVD ?

Les principaux composants d'une machine MPCVD comprennent un générateur de micro-ondes (pour produire du plasma), une chambre de réaction (pour loger le substrat et le mélange gazeux sous basse pression), un porte-substrat (pour maintenir le substrat pendant le dépôt), un système d'alimentation en gaz (pour introduire et contrôler le mélange gazeux) et un système de vide (pour maintenir l'environnement à basse pression nécessaire).

Comment Une Machine MPCVD Améliore-t-elle L'efficacité énergétique ?

Une machine MPCVD améliore l'efficacité énergétique grâce à son procédé sans électrode, qui réduit la contamination et la perte d'énergie. La génération de plasma par micro-ondes est très efficace, et la conception modulaire et évolutive du système permet d'optimiser l'utilisation de l'énergie dans diverses applications industrielles.

Pourquoi La Technique MPCVD Est-elle Privilégiée Pour La Croissance Du Diamant ?

La technique MPCVD est privilégiée pour la croissance du diamant car elle fournit une densité élevée de particules chargées et d'espèces réactives, permet le dépôt de films de diamant de grande surface à des pressions plus faibles et garantit une meilleure homogénéité dans les films tels qu'ils ont été produits. Ces caractéristiques permettent d'obtenir des diamants d'une grande pureté et d'une grande qualité, avec un contrôle précis de leurs propriétés.
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915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

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Dépôt Chimique En Phase Vapeur Assisté Par Micro-Ondes


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