Connaissance Quelles sont les spécifications de refroidissement du refroidisseur d'eau PECVD ?Garantir des performances optimales pour votre laboratoire
Avatar de l'auteur

Équipe technique · Kintek Furnace

Mis à jour il y a 3 jours

Quelles sont les spécifications de refroidissement du refroidisseur d'eau PECVD ?Garantir des performances optimales pour votre laboratoire

Les spécifications de refroidissement du refroidisseur d'eau PECVD sont conçues pour maintenir des conditions opérationnelles optimales pour le système.Le refroidisseur a un débit de 10 litres par minute (L/min), une consommation électrique de 0,1 kW, et garantit que la température de l'eau de refroidissement reste inférieure à 37°C.Ces spécifications sont essentielles pour maintenir la stabilité et l'efficacité du processus PECVD, en particulier pour gérer la charge thermique générée pendant le dépôt.Le matériel du système, y compris la taille des électrodes et les capacités de manipulation des substrats, complète les exigences en matière de refroidissement afin de garantir des performances constantes.

Explication des points clés :

  1. Débit (10L/min)

    • Le débit de 10L/min du refroidisseur d'eau assure une circulation suffisante pour dissiper la chaleur générée pendant le processus PECVD.
    • Ce débit est calibré pour correspondre à la charge thermique du système, ce qui permet d'éviter la surchauffe et de maintenir la stabilité du procédé.
    • Avez-vous réfléchi à l'impact que des variations de débit pourraient avoir sur l'uniformité du dépôt ou la longévité de l'équipement ?
  2. Consommation électrique (0,1 kW)

    • La faible consommation électrique de 0,1 kW reflète l'efficacité énergétique du système de refroidissement.
    • Cette spécification est particulièrement pertinente pour les installations visant à minimiser les coûts d'exploitation tout en maintenant un refroidissement de précision.
    • L'intégration de systèmes aussi efficaces est une caractéristique des machines modernes de production de machines hfcvd des conceptions.
  3. Température de l'eau de refroidissement (<37°C)

    • Il est essentiel de maintenir la température de l'eau de refroidissement en dessous de 37°C pour éviter les contraintes thermiques sur les composants PECVD.
    • Ce seuil garantit que le système fonctionne dans des limites thermiques sûres, évitant ainsi d'endommager les pièces sensibles telles que les électrodes RF ou les conduites de gaz.
    • Comment les fluctuations de la température ambiante dans votre installation peuvent-elles affecter cette performance de refroidissement ?
  4. Intégration au matériel PECVD

    • Le système de refroidissement prend en charge des caractéristiques matérielles telles que la taille des électrodes (jusqu'à 460 mm) et la manipulation des substrats, qui génèrent une chaleur importante pendant le fonctionnement.
    • Les spécifications du refroidisseur s'alignent sur la plage de température de la platine (20°C-400°C, extensible à 1200°C), ce qui garantit la compatibilité avec toutes les conditions du processus.
  5. Stabilité et efficacité du processus

    • En maintenant un refroidissement constant, le système permet d'obtenir des taux de dépôt et une qualité de film uniformes, en particulier dans des processus tels que le nettoyage au plasma in situ.
    • Les spécifications de refroidissement soutiennent indirectement d'autres caractéristiques, telles que la commutation RF pour le contrôle des contraintes et les conduites de gaz à débit massique contrôlé.

Ces paramètres de refroidissement sont essentiels à la fiabilité du système PECVD, permettant tranquillement la mise en œuvre de technologies qui façonnent la fabrication avancée de semi-conducteurs et de couches minces.Votre configuration opérationnelle nécessiterait-elle une redondance de refroidissement supplémentaire pour les processus à haute température ?

Tableau récapitulatif :

Spécification Valeur Importance
Débit 10 L/min Assure une dissipation thermique suffisante pour éviter la surchauffe.
Consommation électrique 0,1 kW La faible consommation d'énergie réduit les coûts d'exploitation tout en maintenant un refroidissement de précision.
Température de l'eau de refroidissement <37°C Prévient le stress thermique sur les composants PECVD pour une fiabilité à long terme.

Améliorez l'efficacité du refroidissement de votre laboratoire avec le refroidisseur d'eau PECVD de KINTEK, conçu avec précision.Nos solutions de refroidissement avancées, soutenues par une R&D et une fabrication internes, garantissent le bon déroulement de vos processus à haute température.Que vous ayez besoin de systèmes de refroidissement standard ou personnalisés, nous vous garantissons fiabilité et performance. Contactez nous dès aujourd'hui pour discuter de vos besoins spécifiques !

Produits que vous pourriez rechercher :

Explorer les fenêtres d'observation sous vide poussé pour la surveillance des processus

Découvrez les vannes d'arrêt à bille sous vide durables pour l'intégrité du système

Mise à niveau avec des traversées d'électrodes de précision pour les applications à haute puissance

Produits associés

Bride de fenêtre d'observation CF pour ultravide avec voyant en verre borosilicaté à haute teneur en oxygène

Bride de fenêtre d'observation CF pour ultravide avec voyant en verre borosilicaté à haute teneur en oxygène

Bride de fenêtre d'observation CF pour l'ultravide avec verre borosilicaté de haute qualité pour des applications précises dans l'ultravide. Durable, claire et personnalisable.

Raccord à bride KF ISO CF en acier inoxydable pour ultravide Tube droit Té transversal

Raccord à bride KF ISO CF en acier inoxydable pour ultravide Tube droit Té transversal

Systèmes de tubes à brides en acier inoxydable KF/ISO/CF pour applications de précision. Personnalisables, durables et étanches. Obtenez des solutions d'experts dès maintenant !

Traversée d'électrode sous ultra-vide Connecteur à bride Câble d'alimentation pour applications de haute précision

Traversée d'électrode sous ultra-vide Connecteur à bride Câble d'alimentation pour applications de haute précision

Traversées d'électrodes pour l'ultra-vide pour des connexions UHV fiables. Options de brides personnalisables à haute étanchéité, idéales pour les semi-conducteurs et les applications spatiales.

Vanne d'arrêt à bille en acier inoxydable 304 316 pour les systèmes de vide

Vanne d'arrêt à bille en acier inoxydable 304 316 pour les systèmes de vide

Les vannes à bille et les vannes d'arrêt à vide en acier inoxydable 304/316 de KINTEK assurent une étanchéité de haute performance pour les applications industrielles et scientifiques. Découvrez des solutions durables et résistantes à la corrosion.

Assemblage d'étanchéité de traversée d'électrode à vide à bride CF KF pour les systèmes à vide

Assemblage d'étanchéité de traversée d'électrode à vide à bride CF KF pour les systèmes à vide

Passage fiable d'électrodes à vide à bride CF/KF pour les systèmes à vide de haute performance. Garantit une étanchéité, une conductivité et une durabilité supérieures. Options personnalisables disponibles.

Four tubulaire CVD à chambre divisée avec machine CVD à station de vide

Four tubulaire CVD à chambre divisée avec machine CVD à station de vide

Four tubulaire CVD à chambre divisée avec station de vide - Four de laboratoire de haute précision à 1200°C pour la recherche sur les matériaux avancés. Solutions personnalisées disponibles.

Éléments chauffants thermiques en disiliciure de molybdène MoSi2 pour four électrique

Éléments chauffants thermiques en disiliciure de molybdène MoSi2 pour four électrique

Éléments chauffants MoSi2 haute performance pour les laboratoires, atteignant 1800°C avec une résistance supérieure à l'oxydation. Personnalisables, durables et fiables pour les applications à haute température.

Hublot d'observation pour ultravide Bride en acier inoxydable Verre saphir Voyant pour KF

Hublot d'observation pour ultravide Bride en acier inoxydable Verre saphir Voyant pour KF

Fenêtre d'observation à bride KF avec verre saphir pour l'ultravide. Acier inoxydable 304 durable, température maximale de 350℃. Idéal pour les semi-conducteurs et l'aérospatiale.

RF PECVD System Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma)

RF PECVD System Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma)

Système KINTEK RF PECVD : Dépôt de couches minces de précision pour les semi-conducteurs, l'optique et les MEMS. Processus automatisé à basse température avec une qualité de film supérieure. Solutions personnalisées disponibles.

Four rotatif incliné pour le dépôt chimique amélioré par plasma (PECVD)

Four rotatif incliné pour le dépôt chimique amélioré par plasma (PECVD)

La machine de revêtement PECVD de KINTEK produit des couches minces de précision à basse température pour les LED, les cellules solaires et les MEMS. Des solutions personnalisables et performantes.

Four rotatif incliné pour le dépôt chimique amélioré par plasma (PECVD)

Four rotatif incliné pour le dépôt chimique amélioré par plasma (PECVD)

Four tubulaire PECVD avancé pour le dépôt précis de couches minces. Chauffage uniforme, source de plasma RF, contrôle des gaz personnalisable. Idéal pour la recherche sur les semi-conducteurs.

915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

Machine à diamant KINTEK MPCVD : Synthèse de diamants de haute qualité grâce à la technologie MPCVD avancée. Croissance plus rapide, pureté supérieure, options personnalisables. Augmentez votre production dès maintenant !

Four de traitement thermique sous vide du molybdène

Four de traitement thermique sous vide du molybdène

Four sous vide en molybdène haute performance pour un traitement thermique précis à 1400°C. Idéal pour le frittage, le brasage et la croissance cristalline. Durable, efficace et personnalisable.

Four de pressage à chaud sous vide Machine de pressage sous vide chauffée

Four de pressage à chaud sous vide Machine de pressage sous vide chauffée

Four de pressage à chaud sous vide KINTEK : chauffage et pressage de précision pour une densité de matériau supérieure. Personnalisable jusqu'à 2800°C, idéal pour les métaux, les céramiques et les composites. Explorez les fonctions avancées dès maintenant !

Éléments chauffants thermiques en carbure de silicium SiC pour four électrique

Éléments chauffants thermiques en carbure de silicium SiC pour four électrique

Éléments chauffants SiC haute performance pour les laboratoires, offrant une précision de 600-1600°C, une efficacité énergétique et une longue durée de vie. Solutions personnalisables disponibles.

2200 ℃ Four de traitement thermique sous vide en graphite

2200 ℃ Four de traitement thermique sous vide en graphite

Four à vide en graphite 2200℃ pour le frittage à haute température. Contrôle PID précis, vide de 6*10-³Pa, chauffage durable du graphite. Idéal pour la recherche et la production.

Système de machine MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

Système de machine MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

Systèmes MPCVD KINTEK : Produisez des films de diamant de haute qualité avec précision. Fiables, économes en énergie et faciles à utiliser pour les débutants. Assistance d'un expert disponible.

Machine MPCVD Système Réacteur Résonateur à cloche pour laboratoire et croissance de diamants

Machine MPCVD Système Réacteur Résonateur à cloche pour laboratoire et croissance de diamants

Systèmes KINTEK MPCVD : Machines de croissance de diamants de précision pour les diamants de haute pureté produits en laboratoire. Fiables, efficaces et personnalisables pour la recherche et l'industrie.

Hublot d'observation pour ultravide Bride KF Acier inoxydable 304 Verre borosilicaté à haute teneur en oxygène Voyant

Hublot d'observation pour ultravide Bride KF Acier inoxydable 304 Verre borosilicaté à haute teneur en oxygène Voyant

Fenêtre d'observation KF pour le vide ultra poussé avec verre borosilicaté pour une vision claire dans des environnements de vide exigeants. La bride durable en acier inoxydable 304 assure une étanchéité fiable.

Soufflets à vide haute performance pour une connexion efficace et un vide stable dans les systèmes

Soufflets à vide haute performance pour une connexion efficace et un vide stable dans les systèmes

Fenêtre d'observation KF pour l'ultravide avec verre borosilicaté pour une vision claire dans des environnements exigeants de 10^-9 Torr. Bride durable en acier inoxydable 304.


Laissez votre message